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J-GLOBAL ID：201502265778115576   整理番号：15A0456120

フレキシブルエレクトロニクスにおける応用のためのAgナノ粒子インクの選択的レーザ焼結

Selective laser sintering of Ag nanoparticles ink for applications in flexible electronics

著者 (5件)： THEODORAKOS I. (National Technical Univ. of Athens, Physics Dep., Zografou Campus, 15780, GRC) ,  ZACHARATOS F. (National Technical Univ. of Athens, Physics Dep., Zografou Campus, 15780, GRC) ,  GEREMIA R. (Oxford Lasers Ltd, Unit 8, Moorbrook Park, Oxfordshire OX11 7HP, GBR) ,  KARNAKIS D. (Oxford Lasers Ltd, Unit 8, Moorbrook Park, Oxfordshire OX11 7HP, GBR) ,  ZERGIOTI I. (National Technical Univ. of Athens, Physics Dep., Zografou Campus, 15780, GRC)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 336  ページ： 157-162  発行年： 2015年05月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究では,532及び1064nmで動作する三つの異なるレーザ光源(連続波(CW)またはパルスナノ秒(ns)及びピコ秒(ps))の,フレキシブル基板上のAgナノ粒子(NP)インク層の選択的レーザ焼結用の効率的ツールとしての可能性を調べた。理論シミュレーションは,ピコ秒(ps)レーザパルスが熱影響区域をインク層の照射領域周辺のみの数ミクロンに制限することを示した。より長い幅のパルスまたは連続波動作に対しては,有害な高温が基板に達するのを避けるために,レーサビームプロフィルと平均パワーを考慮せねばならない。これらの予測はpsパルスにより1064nmで実験的に確認され,基板劣化の証拠なしに効率的なAgインク焼結が達成された。反対に,長いパルスは広い波長範囲でAg-NPを焼結し得たが,広いレーザフルエンス領域で基板損傷を加えた。20W以上のレーザパワーを印加したとき,連続波モードは低T_g高分子に損傷を加え得たが,これは均一な金属特徴の微小パターンを焼結するのに最も柔軟性のあるツールであった。各配置の特性と基礎機構を議論した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 電子技術 ,  *ナノ粒子 ,  *レーザ焼結 ,  連続レーザ ,  パルスレーザ ,  電子顕微鏡観察 ,  シミュレーション ,  微細構造 ,  *銀 ,  *インク ,  ピコ秒 ,  ナノ秒 ,  *フレキシブル基板 ,  レーザリソグラフィー ,  回路パターン形成 ,  *付加製造
準シソーラス用語： *Agナノ粒子 ,  ピコ秒レーザ ,  フレキシブルエレクトロニクス ,  *選択的レーザ焼結 ,  *導電性インク

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  インキ  (YJ02000N) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： フレキシブルエレクトロニクス ,  応用 ,  Agナノ粒子 ,  インク ,  選択的レーザ焼結