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J-GLOBAL ID：201502265890466284   整理番号：15A0749697

シリコン表面開始AGET ATRPを介する傾斜ポリ(スチレン-co-ポリグリシドール)グラフト

Gradient Poly(styrene-co-polyglycidol) Grafts via Silicon Surface-Initiated AGET ATRP

著者 (8件)： GOSECKA Monika (Center of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Acad. of Sci., Lodz, POL) ,  PIETRASIK Joanna (Technical Univ. Lodz, Lodz, POL) ,  DECORSE Philippe (Univ. Denis Diderot, Paris, FRA) ,  GLEBOCKI Bartosz (Center of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Acad. of Sci., Lodz, POL) ,  CHEHIMI Mohamed M. (Univ. Denis Diderot, Paris, FRA) ,  CHEHIMI Mohamed M. (Univ. Paris Est, Thiais, FRA) ,  SLOMKOWSKI Stanislaw (Center of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Acad. of Sci., Lodz, POL) ,  BASINSKA Teresa (Center of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Acad. of Sci., Lodz, POL)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 31  号： 17  ページ： 4853-4861  発行年： 2015年05月05日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スチレンとα-tert-ブトキシ-ω-ビニルベンジル-ポリグリシドール(PGL)ベースの傾斜共重合体グラフトを,シリコンウエハ上に,表面開始AGET ATRP(電子移動ラジカル重合により作製した活性化剤)を介して作製した。組成,厚さ,主軸とシリコウエハとの濡れ性を,制御することができた。傾斜皮膜は,長い重合時間,反応媒質へのPGL前駆体の連続的供給などにより形成した。疎水性ポリスチレンコロイド粒子と傾斜共重合体皮膜との相互作用は,基板の疎水性部分への粒子の優先的吸着をもたらした。共重合体含有PGLにより被覆した基板は,調整された親水性をもたらして,合成コロイドと制御された相互作用をもつ対象物を作製するための良好な候補である。

シソーラス用語： *ポリアルキレンオキシド ,  *ポリスチレン ,  共重合 ,  電子移動 ,  ラジカル重合 ,  ウエハ【IC】 ,  濡れ ,  コロイド ,  微粒子 ,  疎水性 ,  親水性 ,  ビニル化合物 ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： グラフト ,  コロイド粒子 ,  シリコンウエハ ,  *ポリグリシドール ,  濡れ性

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン ,  ATRP ,  スチレン ,  CO ,  ポリグリシドール ,  グラフト