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J-GLOBAL ID:201502267820172804   整理番号:15A0212433

プラズマ増強アーク放電技術を用いた異なったカーボンナノ構造の高ゾーン依存合成

Highly zone-dependent synthesis of different carbon nanostructures using plasma-enhanced arc discharge technique
著者 (8件):
資料名:
巻: 17  号:ページ: 2837,1-9  発行年: 2015年01月 
JST資料番号: W1361A  ISSN: 1388-0764  CODEN: JNARFA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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樹状カーボンナノ構造,つまりグラフェンナノフレーク(GNF),多層カーボンナノチューブ(MWCNT),球状カーボンナノ粒子(SCNP)を,実験により比較研究した。これらのカーボンナノ構造を,直流プラズマ支援アーク放電チャンバ内の特定の位置に配置した。圧力400トールのヘリウム(He)雰囲気中で,アーク電極としてグラファイトを用い,カーボンナノ構造を連続的に合成した。SCNPがカソードホルダ上に堆積形成され,非常に曲がったグラファイト構造がほとんどであった。直径は20~60nmであり,これらの粒子は互いに自己組織化したように見られる。直径10~30nmのMWCNTが得られ,カソード堆積中の膨張部分の内部に存在した。これらのMWCNTは,層間距離が3.59Åの14~18グラファイト層であった。GNFは,1~5μmの平均横サイズで,数層の積層で捻じれた構造であった。GNFは低温でより安定(低質量損失)であるが,SCNPは高温で低質量損失であった。Copyright 2015 Springer Science+Business Media Dordrecht Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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半導体薄膜 

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