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J-GLOBAL ID：201502268642324626   整理番号：15A0624013

シリコン太陽電池の新規表面加工技術により発現する光学および電気的特性

著者 (1件)： 齋藤洋司 (成蹊大 理工)
資料名： 材料の科学と工学  (Materials Science and Technology of Japan)
巻： 52  号： 2  ページ： 40-43  発行年： 2015年04月20日 
JST資料番号： G0788A  ISSN： 1347-4774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,結晶シリコンを基板として用いる太陽電池の高効率化手法として,基板表面に凹凸構造を形成するテクスチャ化に焦点をあて,特に,プラズマを用いないドライエッチング法(反応性ガスである三フッ化塩素ガスを使用する方法)について解説した。以上の手法を適用すると,可視光域で10%以下の反射率が容易に得られるが,一方で,反射率の低減に見合う変換効率の改善が得られないという問題も発生するため,その原因を明らかにするとともに,解決策として,ドライエッチング後にウェットエッチングを施す方法,太陽電池の不純物拡散層をテクスチャ化する方法について考察したほか,ドライエッチングの最適な条件を探ったので,これらの結果について報告した。

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *太陽電池 ,  *表面加工 ,  *フッ化塩素 ,  ドライエッチング ,  表面構造 ,  *反射率 ,  *エネルギー変換効率 ,  効率化 ,  不純物拡散 ,  多結晶 ,  反射スペクトル ,  シート抵抗 ,  時間依存性 ,  単結晶 ,  構造 ,  改変
準シソーラス用語： 三フッ化塩素 ,  表面テクスチャー

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

引用文献 (16件)：

• P. Campbell and M. A. Green, J. Appl. Phys. 62, 243 (1987)
• Nishimoto, T. Ishihara, and K. Namba, J, Electrochem. Soc., 146, 457 (1999)
• R. Watanabe, S. Abe, S. Haruyama, T. Suzuki, M. Onuma, and Y. Saito, Int. J. Photoenergy, 2013, 951303 (2013)
• Y. Inomata, K. Fukui, K. Shirasawa, Solar Energy Mater. Solar Cells, 48, 237 (1997)
• L. Cecchetto, L. Serenelli, G Agarwal, M. Izzi, E. Salza, M. Tucci, Solar Energy Mater. Solar Cells, 116, 283 (2013)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン太陽電池 ,  表面加工 ,  発現 ,  光学 ,  電気的特性