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J-GLOBAL ID：201502268835361723   整理番号：15A0362339

パルスレーザー堆積法によって堆積されたYドープBaZrO₃薄膜のパラメトリック研究

Parametric study of Y-doped BaZrO₃ thin film deposited via pulsed laser deposition

著者 (3件)： CHANG Ikwhang (Graduate School of Convergence Sci. and Technol., Seoul National Univ., Gwanakro 599, Gwanak-gu, Seoul 151-744, KOR) ,  PAEK Jun Yeol (Fuel Cell Vehicle Team, Hyundai Motor Co., 104 Mabuk-dong, Giheung-gu, Yongin 446-914, KOR) ,  CHA Suk Won (Graduate School of Convergence Sci. and Technol. and Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Seoul National ...)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 33  号： 2  ページ： 021515-021515-5  発行年： 2015年03月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,パルスレーザー堆積(PLD)過程によるYドープジルコン酸バリウム(BZY)の微細構造形態について研究した。PLDチャンバー中の基板温度を変えてBZY薄膜結晶性を調べた。酸素圧0.013mbar下で堆積したBZY薄膜は基板温度によらず(25°C≦T≦600°C)高密度であったが,酸素分圧0.13mbar下で低温(T≦200°C)で堆積した薄膜は多孔構造をとった。更に,0.26mbar下で低/中程度温度域(25°C≦T≦400°C)で堆積したBZY薄膜は多孔で柱状構造をとった。チャンバー圧によらず,基板温度が500°C以上の場合,高密度構造のBZY薄膜が得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ蒸着 ,  *ジルコニウム酸塩 ,  バリウム化合物 ,  イットリウム化合物 ,  酸化物 ,  薄膜 ,  基板温度 ,  *薄膜成長 ,  温度依存性 ,  分圧 ,  微細構造 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *PLD【蒸着】 ,  酸化物薄膜 ,  酸素分圧

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザー堆積法 ,  堆積 ,  ドープ ,  薄膜 ,  研究