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J-GLOBAL ID：201502270869376783   整理番号：15A0227915

交互W-豊富およびW-欠乏多層の電着Ni-W薄膜の機械的特性

Mechanical Properties of Electrodeposited Ni-W ThinFilms with Alternate W-Rich and W-Poor Multilayers

著者 (5件)： LEE Sanghyeon (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Ansan 425-791, KOR) ,  CHOI Minyoung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Ansan 425-791, KOR) ,  PARK Subeen (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Ansan 425-791, KOR) ,  JUNG Hyunsung (Advanced Materials Convergence Div., Korea Inst. of Ceramic Engineering & Technol., Seoul 153-801, KOR) ,  YOO Bongyoung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Ansan 425-791, KOR)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 153  ページ： 225-231  発行年： 2015年01月20日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 組成を調整されたニッケル-タングステン(Ni-W)合金を,電解質のpHおよび適用電流密度を制御して電着した。Ni-W合金の電着に用いる電流効率は,採用された電解質のpHに依存した。組成制御された電着Ni-Wの表面のモルフォロジーおよび結晶性のキャラクタリゼーションを行った。Ni-W合金の電気化学的研究に基づき,交互W-豊富およびW-欠乏多層のNi-W薄膜を交流電流密度を採用して製造した。電気化学電池中の析出層の数と規模を適用電流の周波数と周期時間をそれぞれプログラム化して十分制御した。また,Ni-W電着物の硬度および内部歪などの機械的特性を,析出層の組成と数の観点から検討した。硬度を増やすことで亀裂や内部歪の増加を示す単一層のNi-W膜と比較して,表面亀裂の無い調節されたNi-W多層は内部応力の増大を示さずに強化された硬度を示した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *反応器 ,  電気化学反応 ,  *ニッケル合金 ,  *タングステン含有合金 ,  二元合金 ,  *多層構造 ,  電解質 ,  pH【水素イオン指数】 ,  電流密度 ,  電着 ,  電流効率 ,  pH依存性 ,  モルフォロジー ,  結晶度 ,  キャラクタリゼーション ,  X線回折 ,  透過型電子顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  *機械的性質 ,  周波数 ,  周期 ,  *硬度 ,  *亀裂 ,  歪 ,  内部応力 ,  計算制御
準シソーラス用語： プログラム制御 ,  機械的特性 ,  結晶性 ,  *電気化学電池 ,  内部歪

分類 (4件)： 電池一般  (YB04010O) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  金属の機械的性質  (BL01022T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 欠乏 ,  多層 ,  電着 ,  Ni ,  薄膜 ,  機械的特性