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J-GLOBAL ID：201502271864183940   整理番号：15A0127414

VHF SiH₄/H₂プラズマ中の陰イオンの評価

Estimation of negative ions in VHF SiH₄/H₂ plasma

著者 (8件)： YAMANE Tsukasa (Mitsubishi Heavy Ind., Ltd., Nagasaki, JPN) ,  NAKANO Shinya (Mitsubishi Heavy Ind., Ltd., Nagasaki, JPN) ,  NAKAO Sachiko (Mitsubishi Heavy Ind., Ltd., Nagasaki, JPN) ,  TAKEUCHI Yoshiaki (Mitsubishi Heavy Ind., Ltd., Nagasaki, JPN) ,  ICHIKI Ryuta (Oita Univ., Oita, JPN) ,  MUTA Hiroshi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAWAI Yoshinobu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53  号： 11  ページ： 116101.1-116101.4  発行年： 2014年11月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 加熱Langmuirプローブによるシラン濃度の関数として高圧でのVHF SiH₄/H₂プラズマ(周波数:60MHz)の特性を調べた。電子飽和電流の異常な低減を観察しそして,多くの陰イオンの存在を示唆した。陰イオンの濃度の評価を陰イオンを含むシース論を使って試みた。VHF SiH₄/H₂プラズマで優性陰イオンとしてH^ー,SiH_3ーが存在することが分かった。更に,計測した浮動ポテンシャルは,理論的な値に一致した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： VHF【周波数】 ,  *プラズマ ,  *Langmuir探針 ,  シラン ,  *電位 ,  飽和 ,  電流
準シソーラス用語： 浮遊電位

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

引用文献 (17件)：

• M. Kondo, M. Fukawa, L. Guo, and A. Matsuda, J. Non-Cryst Solids 266-269, 84 (2000).
• A. A. Howling, C. Hollenstein, and P. J. Paris, Appl. Phys. Lett 59, 1409 (1991).
• T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, H. Muta, R. Ichiki, K. Uchino, and Y. Kawai, Contrib. Plasma Phys. 53, 588 (2013).
• H. Takatsuka, M. Noda, Y. Yonekura, Y. Takeuchi, and Y. Yamauchi, Sol. Energy 77, 951 (2004).
• M. Racal, G. W. Hamilton, A. M. Bruneteau, H. J. Doucet, and J. Taillet, Rev. Sci. Instrum. 50, 719 (1979).

タイトルに関連する用語 (6件)： VHF ,  SiH4 ,  H2 ,  プラズマ ,  陰イオン ,  評価