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J-GLOBAL ID：201502276035203170   整理番号：15A0580193

SEMによる先端解析技術

Advanced Characterization Techniques in Scanning Electron Microscopy

著者 (2件)： 杉山昌章 (新日鐵住金株式会社 先端技術研究所) ,  谷山明 (新日鐵住金株式会社 先端技術研究所)
資料名： 表面科学  (JSSSJ)
巻： 36  号： 4  ページ： 158-165 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： F0940B  ISSN： 0388-5321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 走査電子顕微鏡(SEM)による先端解析技術の最近の進歩をレビューした。SE1,SE2,SE3やSE4のような二次電子の4つのカテゴリを示し,低電圧SEM及び後方散乱電子(BSE)イメージ技法の鉄鋼分析における微細構造分野への適用を紹介した。入射電子の試料中での振る舞い,入射電子の振る舞いに着目したSEM観察例,SEMによる転位コントラストの観察,高温でのSEM-EBSD計測を詳述した。

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  電子回折 ,  後方散乱 ,  チャネリング ,  コントラスト ,  *鉄鋼分析 ,  電子顕微鏡観察 ,  画像 ,  転位【結晶】 ,  マルテンサイト ,  微細構造 ,  電圧 ,  高温 ,  二次電子放出
準シソーラス用語： EBSD法 ,  SEM【顕微鏡】 ,  低電圧

分類 (1件)： 金属,合金の物理分析  (CC03040V)

引用文献 (20件)：

• 1) 佐藤主税: 顕微鏡 49, 2 (2014).
• 2) V. Nedela, E. Tihlarikova and M. Shiojiri: Microscopy 49, 64 (2014).
• 3) 孝橋照生: 顕微鏡 48, 15 (2013).
• 4) J.I. Goldstein et al.: “Scanning Electron Microscopy and X-ray Microanalysis” (Plenum Press, New York-London, 1981).
• 5) L. Reimer: “Scanning Electron Microscopy, Physics of Image Formation and Microanalysis”, (Springer Series in Opt. Sci. Vol. 45, Springer, Berlin-Heidelberg-New York-Tokyo, 1998).

タイトルに関連する用語 (2件)： SEM ,  解析