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J-GLOBAL ID：201502277602287808   整理番号：15A0700533

RFスパッタZnMnO薄膜の構造と光学的性質に及ぼす基板温度の影響

Influence of substrate temperature on structural and optical properties of RF sputtered ZnMnO thin films

著者 (12件)： PASHAEI Parisa (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  PASHAEI Parisa (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR) ,  AKIN Nihan (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  AKIN Nihan (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR) ,  CEREN BASKOSE U. (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  CEREN BASKOSE U. (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR) ,  KEMAL OZTURK M. (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  KEMAL OZTURK M. (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR) ,  CAKMAK Mehmet (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  CAKMAK Mehmet (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR) ,  OZCELIK Suleyman (Gazi Univ., Photonics Application and Res. Center, 06500, Ankara, TUR) ,  OZCELIK Suleyman (Gazi Univ., Dep. of Physics, 06500, Ankara, TUR)
資料名： Semiconductors  (Semiconductors)
巻： 49  号： 6  ページ： 780-784  発行年： 2015年06月 
JST資料番号： T0093A  ISSN： 1063-7826  CODEN： SMICES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高周波マグネトロンスパッタリング法によりZnMnO薄膜をガラス基板上に堆積した。ZnMnO薄膜の性質を高分解能X線回折,原子間力顕微鏡,紫外-可視分光,光ルミネセンス分光(室温)により評価し,基板温度の影響を調べた。基板温度は300,400および500°Cである。基板温度を上げていくと,膜構造は立方晶から六方晶へと変化した。立方晶ZnMnO薄膜は[210]方向に沿って成長したが,六方晶ZnMnO薄膜は[002]方向に沿って成長した。表面性状の変化も構造転移が起きたことを示している。光学ギャップが減少するか増大するかは,膜構造が立方晶か六方晶かに関係する。Copyright 2015 Pleiades Publishing, Ltd. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化物 ,  *亜鉛化合物 ,  *マンガン化合物 ,  化合物半導体 ,  *薄膜成長 ,  RFスパッタリング ,  マグネトロンスパッタリング ,  基板 ,  *基板温度 ,  *結晶構造 ,  立方晶系 ,  六方晶系 ,  優先配向 ,  表面粗さ ,  *光学ギャップ ,  光ルミネセンス ,  可視発光スペクトル
準シソーラス用語： ガラス基板

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： RFスパッタ ,  薄膜 ,  光学的性質 ,  基板温度