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J-GLOBAL ID：201502277612385948   整理番号：15A0241015

水浄化を支えるセラミックス技術 流動床の光触媒を用いた水浄化技術

著者 (5件)： 猪野大輔 (Panasonic corp.) ,  橋本泰宏 (Panasonic corp.) ,  高岡友康 (Panasonic corp.) ,  丸尾ゆうこ (Panasonic corp.) ,  原恒平 (Panasonic corp.)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 50  号： 2  ページ： 96-100  発行年： 2015年02月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 水処理は,沈殿濾過方式に対して,オゾン/紫外光反応,過酸化水素/紫外光反応およびフォトフェントン反応などに代表される高度酸化処理法の研究が盛んになっている。これらはヒドロキシルラジカル(OH⁰),O^2-,HO₂⁰などによって特徴付けられており,これらの活性酸素によって有機物源になる腐植物を容易に分解することを原理としている。これらの活性酸素は農薬,医薬品,ウイルスなどにも対応できる。当然,塩素系処理と違ってハロゲン化物も生じない。実用化するために,固定床および流動床の研究が行われている。TiO₂の光触媒を使った水処理の説明を行い,具体的にヒ素濃度の低減が可能であることを示した。

シソーラス用語： *浄水 ,  浄水器 ,  流動層反応器 ,  *光触媒 ,  *酸化チタン ,  触媒活性 ,  ヒドロキシルラジカル ,  活性酸素 ,  腐植 ,  ヒ素 ,  光化学反応 ,  浄化 ,  *光触媒反応 ,  セラミック
準シソーラス用語： 二酸化チタン ,  汚染物質除去 ,  光触媒活性 ,  酸化処理 ,  水浄化 ,  水浄化装置 ,  腐植物質 ,  分解速度

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  用水の化学的処理  (SC02040E)

引用文献 (7件)：

• U. I. Gaya and A. H. Abdullah, J. Photochem. Photobiol. C: Photochem. Rev., 9, 1-12 (2008).
• G. Mascolo, R. Comparelli, M. Curri, G. Lovecchio, A. Lopez and A. Agostiano, J. Hazard. Mater., 142, 130-137 (2007).
• T. E. Doll and F. H. Frimmel, Water Research, 39, 847-854 (2005).
• Y. Kikuchi, K. Sunada, T. Iyoda, K. Hashimoto and A. Fujishima, J. Photochem Photobiol. A, 106, 51-56 (1997).
• H. Lee and W. Choi, Environ Sci. Technol., 36, 3872 (2002).

タイトルに関連する用語 (4件)： 水浄化 ,  セラミックス ,  流動床 ,  光触媒