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J-GLOBAL ID：201502279268440465   整理番号：15A0644536

ヒストンH4K16のアセチル化認識用に表面限定性分子刷込みで合成された人工受容体

An artificial receptor synthesized by surface-confined imprinting for the recognition of acetylation on histone H4 K16

著者 (3件)： YANG Fangfang (Dep. of Chemistry, Nankai Univ., Tianjin 300071, P. R. China. [e-mail]) ,  LIN Shen ,  DONG Xiangchao
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 51  号： 36  ページ： 7673-7676  発行年： 2015年05月04日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面限定性分子刷込みによりヒストンH4の16部位リシン(K16)のアセチル化を認識する新規人工受容体を合成した。本物質は高度の認識忠実性とエピトープ親和性を所持した。アセチル化K16が結合部位の構築を演じ,ペプチドの刷込みがリン酸緩衝液で実施できることを実証した。本分子刷込み重合体(MIP)がヒストン消化物からのヒストンH4K16のアセチル化分析に利用できると考えた。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *ヒストン ,  *アミノ酸残基 ,  *アセチル化 ,  分子認識 ,  結合部位 ,  エピトープ ,  翻訳後修飾 ,  生体物質類似体 ,  ペプチド ,  鋳型【遺伝】 ,  二酸化ケイ素 ,  アミノ酸 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  第一アミン
準シソーラス用語： GGAKacR ,  シリカ ,  *ヒストンH4K16 ,  リシンアセチル化 ,  *人工受容体 ,  分子刷込

分類 (3件)： 遺伝子発現  (EC02040Q) ,  化学合成  (EB03030J) ,  抗原・抗体・補体の生産と応用  (ED04030W)

物質索引 (1件)： リシン

タイトルに関連する用語 (3件)： アセチル化 ,  分子刷込み ,  人工受容体