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J-GLOBAL ID：201502279492045938   整理番号：15A0601494

単結晶ダイヤモンド基板の紫外線照射研磨条件の最適化

著者 (5件)： 浦川翔 (熊本大 大学院自然科学研究科) ,  小田和明 (熊本大 大学院自然科学研究科) ,  坂本武司 (熊本大 大学院自然科学研究科) ,  横井裕之 (熊本大 大学院自然科学研究科) ,  峠睦 (熊本大 大学院自然科学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2015  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.R46  発行年： 2015年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 単結晶ダイヤモンドは半導体デバイスとしての利用が期待されている。しかし従来の加工法では平滑で歪みのない面を得ることは困難である。現在,我々の研究室では石英を用いたダイヤモンドの紫外線照射研磨の研究を行っている。研磨雰囲気を変えた際の発光強度,COガス濃度,到達面粗さ,研磨レートなどの測定を行い,最適な研磨条件の確認を行った。また,ダイヤモンド表面のラマン分光測定を行い,研磨時の表面構造変化を調べた。(著者抄録)

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  *紫外線照射 ,  *研磨 ,  半導体素子 ,  表面粗さ
準シソーラス用語： *単結晶ダイアモンド

分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 単結晶 ,  ダイヤモンド基板 ,  紫外線照射 ,  研磨条件 ,  最適化