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J-GLOBAL ID：201502281197803655   整理番号：15A0025138

高周波マグネトロンスパッタリングにより成長させたYb~(3+)をドープしたCaWO_4薄膜の光ルミネセンス特性【Powered by NICT】

Photoluminescence Properties of Yb(3+)-doped CaWO_4 Thin Films Grown by Radio Frequency Magnetron Sputtering

著者 (5件)： Liao Jinsheng (School of Metallurgy and Chemistry Engineering, Jiangxi Univ. of Sci. and Technol., Ganzhou) ,  Liu Bao (School of Metallurgy and Chemistry Engineering, Jiangxi Univ. of Sci. and Technol., Ganzhou) ,  Liu Shaohua (School of Metallurgy and Chemistry Engineering, Jiangxi Univ. of Sci. and Technol., Ganzhou) ,  Zhong Laifu (School of Metallurgy and Chemistry Engineering, Jiangxi Univ. of Sci. and Technol., Ganzhou) ,  Fu Junxiang (School of Metallurgy and Chemistry Engineering, Jiangxi Univ. of Sci. and Technol., Ganzhou)
資料名： Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)
巻： 35  号： 10  ページ： 1234-1239  発行年： 2014年 
JST資料番号： W1380A  ISSN： 1000-7032  CODEN： FAXUEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： Yb~(3+)ドープCaWO_4薄膜をラジオ周波数(RF)マグネトロンスパッタリングにより作製し,種々の堆積圧力の影響と膜の構造,表面形態および光学的性質に及ぼす時間を考察した。XRDの結果は,試料が正方晶灰重石構造を持ち,膜は,異なる堆積圧の下で(004)方向に沿った優先配向をもつことを確認した。SEM像は,膜の表面形態は球体のような粒,ボイドから成ることを示した。PLスペクトルは,膜は260nmの励起下で994nmに中心を持つ強い近赤外発光を示すことが分かった。Yb~(3+)のルミネセンス強度はスパッタリング圧力の増加と共に不規則に近づくと,最初に増加し,スパッタリング時間の増加と共に減少した。CaWO_4:Yb~(3+)薄膜の優れたルミネセンス特性は,強化されたシリコン太陽電池性能のための潜在的なルミネセンス変換器層として考えられる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ドーピング ,  *光ルミネセンス ,  *マグネトロンスパッタリング ,  光学的性質 ,  X線回折 ,  正方晶系 ,  灰重石 ,  優先配向 ,  空孔欠陥 ,  近赤外線 ,  *スパッタリング ,  変換器
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング ,  表面形態 ,  光ルミネセンススペクトル ,  シリコン太陽電池 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  成長 ,  ドープ ,  薄膜 ,  光ルミネセンス