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J-GLOBAL ID：201502284404863271   整理番号：15A0321433

ITO及びHOPG表面の官能化に用いるホスホン酸とピレン基をもつ「ヤヌス型」ルテニウム錯体

“Janus-type” Ruthenium Complex Bearing Both Phosphonic Acids and Pyrene Groups for Functionalization of ITO and HOPG Surfaces

著者 (6件)： YANG Li (Fac. of Metallurgical and Energy Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol.) ,  OZAWA Hiroaki (Dep. of Applied Chemistry, Chuo Univ.) ,  KOUMOTO Mayuko (Dep. of Applied Chemistry, Chuo Univ.) ,  YOSHIKAWA Kai (Dep. of Applied Chemistry, Chuo Univ.) ,  MATSUNAGA Mariko (Dep. of Electrical, Electronic, and Communication Engineering, Chuo Univ.) ,  HAGA Masa-aki (Dep. of Applied Chemistry, Chuo Univ.)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 44  号： 2  ページ： 160-162 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホスホン酸とピレン基をもつ新しいヤヌス型ルテニウム錯体は種々の連結モードでITO及びHOPG表面に結合された。ITO表面では,ホスホン酸基は選択的にITOに結合し,上端に露出したピレン基のため疎水性表面ができた。他方,HOPG表面では,ピレン基は非共有結合相互作用によりHOPG表面と相互作用し,ホスホン酸基を露出している疎水性表面となった。この選択性によりレドックス活性ルテニウム錯体とグラフェン複合材料を分子単位の積層成長によってつくることができる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化インジウムスズ ,  *高配向性熱分解グラファイト ,  *官能化 ,  *表面改質 ,  *ホスホン酸 ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  *ルテニウム錯体 ,  選択性 ,  疎水性 ,  化学結合 ,  分子間相互作用 ,  酸化還元反応 ,  炭素材 ,  複合材料 ,  積層構造 ,  自己集合 ,  陽子磁気共鳴 ,  エレクトロスプレイイオン化質量分析 ,  ジルコニウム錯体 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  紫外可視吸収スペクトル ,  走査電子顕微鏡 ,  グラフェン
準シソーラス用語： ESI-MS ,  *HOPG ,  *ITO ,  π-π相互作用【分子】 ,  *ピレン誘導体 ,  非共有結合 ,  *表面官能化

分類 (5件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  有機りん化合物  (CF08040N) ,  四環以上の炭素縮合多環化合物  (CF06090C) ,  固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (3件)： ピレン ,  2,6-ビス[1-[3,5-ビス(ホスホノメチル)-2,4,6-トリメチルベンジル]-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]ピリジン ,  2,6-ビス(1-メチル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル)-4-[3,5-ビス[4-(1-ピレニル)ブトキシ]フェニル]ピリジン

タイトルに関連する用語 (6件)： ITO ,  HOPG ,  官能化 ,  ホスホン酸 ,  ピレン ,  ルテニウム錯体