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J-GLOBAL ID:201502284562539821   整理番号:15A0560619

GaAs(100)表面上の自然酸化層の深さプロフィル分析

Depth profile analysis of native oxide layer on GaAs (100) surface
著者 (14件):
資料名:
巻: 9295  ページ: 929503.1-929503.5  発行年: 2014年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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GaAs(100)表面は表面エネルギーが高く,従って反応性が高く,化学的に不安定で,GaAs(100)表面の化学分析は困難である。本研究では,GaAs(100)表面の自然酸化層の深さプロフィルを,1keVのAr+イオンによるエッチングとX線光電子分光法を用いて分析した。表面の最も外側の酸化相はGa2O3,As2O3,As2O5からなり,中間層はGaの酸化物のみを含んだ。全ての酸化層でAsの濃縮を認めたが,Ga酸化物の含有量は最も外側の酸化層を除いてAs酸化物量よりも多かった。
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分類 (1件):
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一般及び無機化合物の電子分光スペクトル(分子) 
タイトルに関連する用語 (4件):
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