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J-GLOBAL ID：201502284591321274   整理番号：15A0716186

ドライプロセスによるカーボン膜のフッ素官能基光化学修飾

著者 (3件)： 中村挙子 (産業技術総合研) ,  土屋哲男 (産業技術総合研) ,  大花継頼 (産業技術総合研)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 3  ページ： 636  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： カーボン膜は種々の高機能特性を有する材料であり,その表面に化学修飾を施すことによって,より高付加価値の材料となることが期待される。一方,フッ素官能基を有する材料はフッ素特有の特異な性質を有し,生理活性・撥水性・撥油性等の機能を発現することから,医薬・農薬・機能性材料として有用である。演者らは,既にアゾ化合物の光反応を利用したウェットプロセスにより,カーボン系材料表面にフッ素系官能基を導入する反応について開発を行ってきた。本研究では,アゾ化合物の光反応をドライプロセスへ適用することにより,より簡便なカーボン膜のフッ素官能基化学修飾について検討した。(著者抄録)

シソーラス用語： 乾式法 ,  *炭素 ,  *薄膜 ,  *化学修飾 ,  *光化学反応
準シソーラス用語： *炭素膜

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： 1,2-ビス(ヘプタデカフルオロオクチル)ジアゼン

タイトルに関連する用語 (5件)： ドライプロセス ,  カーボン膜 ,  フッ素 ,  官能基 ,  化学修飾