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J-GLOBAL ID:201502284966339915   整理番号:15A0440981

ZSM-5ゼオライト上にZnO薄膜の原子層堆積とChichibabin反応における触媒性能

Atomic Layer Deposition of ZnO Thin Films on ZSM-5 Zeolite and Its Catalytic Performance in Chichibabin Reaction
著者 (4件):
資料名:
巻: 145  号:ページ: 947-954  発行年: 2015年03月 
JST資料番号: T0669A  ISSN: 1011-372X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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一連のZnO薄膜を修飾したZSM-5ゼオライトは原子層堆積(ALD)法により異なるALDサイクル数の調製を行った。三個のサンプルを窒素吸脱着,ICP-AES,XPS,TEMおよびNH3-TPD法により特性化した。本特性化の結果から薄膜はZnOであり,ZSM-5の表面,特に端面に堆積した。ZSM-5の表面とポアをALDサイクルの増加から着室に被覆した。各サイクルのZn含量をZSM-5基質にZnOを堆積したモデルは推測した。調製したサンプルの表面酸性度はALDサイクル数も調製により合わせた。これらのサンプルの触媒特性をアセトアルデヒドとアンモニアのChichibabin反応で評価した。これらはピリジン塩基の全収量をかなり高めただけでなく,生成物の分布も変えた。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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触媒反応一般  ,  置換反応 
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