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J-GLOBAL ID：201502286319334432   整理番号：15A0445020

オフアクシス電子ホログラフィーを介したCoNiマイクロフラワーのサイズ支配的磁気マイクロ波吸収特性への洞察

Insights into Size-Dominant Magnetic Microwave Absorption Properties of CoNi Microflowers via Off-Axis Electron Holography

著者 (7件)： LIU Qinghe (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  CAO Qi (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  ZHAO Xuebing (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  BI Han (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  WANG Chao (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  WU David Sichen (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  CHE Renchao (Fudan Univ., Shanghai, CHN)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7  号： 7  ページ： 4233-4240  発行年： 2015年02月25日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電磁波遮蔽の技術開発に関連して,本研究では,オフアクシス電子ホログラフィーを介したCoNiマイクロフラワーのサイズ支配的磁気マイクロ波吸収特性について調べた。著者らは,CoNiのサイズの異なるフラワー状階層的微細構造を,一段階ソルボサーマル法で調製した。前駆体と界面活性剤との濃度の単純な調節で得た上記フラワーは,均一なサイズ,良好な単分散性,著しい磁気マイクロ波吸収特性,ならびに電子ホログラフィー位相像を示した。キャラクタリゼーションの結果は,1)上記フラワーの特性が,その形態およびサイズに依存すること,2)これらフラワーは,グリッド面に対するフラワー表面の方位に依存して,異なる漂遊磁場を示すこと,3)フラワーサイズの増大と共に,保磁力は低下し,飽和磁化は増大すること,などを記した。

シソーラス用語： ホログラフィー ,  *ニッケル合金 ,  コバルト含有合金 ,  *ナノ構造 ,  結晶成長 ,  化学合成 ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  電子顕微鏡観察 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  制限視野回折 ,  磁気ヒステリシス ,  飽和磁化 ,  保磁力 ,  *電磁波吸収 ,  磁場 ,  *磁気遮蔽 ,  透磁率 ,  複素誘電率 ,  *強磁性 ,  サイズ効果 ,  形状効果 ,  脂肪族アミン ,  第四アンモニウム
準シソーラス用語： ソルボサーマル法 ,  ナノフラワー ,  マイクロ波吸収 ,  電子ホログラフィー ,  漂遊磁場 ,  複素透磁率

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

物質索引 (1件)： CTAB

タイトルに関連する用語 (7件)： 電子ホログラフィー ,  フラワー ,  サイズ ,  支配 ,  磁気 ,  マイクロ波吸収 ,  洞察