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J-GLOBAL ID：201502286741770199   整理番号：15A0265557

小フラーレンにカプセル封じした希ガス原子に関する分散補正密度汎関数法を用いた系統的研究

A systematic study of rare gas atoms encapsulated in small fullerenes using dispersion corrected density functional theory

著者 (3件)： SURE Rebecca (Centre for Theoretical Chemistry and Physics, The New Zealand Inst. for Advanced Study, Massey Univ. Auckland, 0745 ...) ,  TONNER Ralf ,  SCHWERDTFEGER Peter
資料名： Journal of Computational Chemistry  (Journal of Computational Chemistry)
巻： 36  号： 2  ページ： 88-96  発行年： 2015年01月15日 
JST資料番号： C0111B  ISSN： 0192-8651  CODEN： JCCHDD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： C₂₀からC₆₀までの最も安定なフラーレン構造を選んで,フラーレンケージ内希ガス元素He,NeまたはArのカプセル封じについて,分散補正密度汎関数法を用いて,エネルギー論および幾何学的結果を調べた。炭素原子数の増大に伴う安定性の指数関数的増大を見出した。希ガスカプセル封じに起因するケージの体積膨張について,炭素原子数の減少に伴って,類似の指数関数則を見出した。著者らは,希ガス原子とフラーレンケージとの間のvan der Waals力が斥力相互作用よりも支配的になり始める場合には,分散相互作用が,フラーレンケージのサイズの増大と共に重要になることを示した。希ガス元素のカプセル封じが好ましい最小フラーレンは,He@C₄₈,Ne@C₅₂およびAr@C₅₈であった。C₆₀内での分散相互作用の傾向は,希ガス双極子分極率での傾向に起因して,Ar>Ne>Heの順であったが,一方,斥力は,比較的小さいケージサイズですぐに支配的になった。著者らは,C₅₀において,希ガスカプセル封じのエネルギー論に対する完全な反転を観測した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *原子 ,  *カプセル封じ ,  van der Waals力 ,  *電子構造 ,  プログラムパッケージ ,  *フラーレンC60 ,  相互作用 ,  分散【dispersion】 ,  結合エネルギー ,  アルゴン ,  ヘリウム ,  ネオン ,  *分子構造 ,  電気双極子 ,  分極率 ,  サイズ効果 ,  密度汎関数法 ,  BSSE ,  安定性
準シソーラス用語： TURBOMOLE 6.3.1. ,  フラーレンC20 ,  分散相互作用

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

タイトルに関連する用語 (7件)： フラーレン ,  カプセル封じ ,  希ガス ,  原子 ,  密度汎関数法 ,  系統 ,  研究