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J-GLOBAL ID:201502287629855234   整理番号:15A0659515

発達した気孔を有する中空Ag-SiO2複合球のPMHS還元製造

PMHS-reduced fabrication of hollow Ag-SiO2 composite spheres with developed porosity
著者 (6件):
資料名:
巻: 75  号:ページ: 82-89  発行年: 2015年07月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ハードテンプレートとしてカルボキシル基で封鎖された単分散ポリスチレン(PS-COOH)球を用いることにより,発達気孔を有するAg-SiO2中空複合球を製造するために,ワンポット法を導入した。この合成プロセス中,Ag+イオンは,静電相互作用により,このPS-COOH球の表面上に直ちに固定され,還元剤としてポリメチルヒドロシロキサン(PMHS)を用いることにより容易に還元される。同時に,PMHSおよびTEOSの加水分解で生ずるシリカオリゴマーは,このPS-COOH球の上にゆっくり堆積して固体のシリカ殻を形成する。次に,空気中でのPS-COOH球の分解が,Ag-SiO2中空球の形成を誘導する。この調製された状態の生成物は,X線回折,フーリエ変換赤外分光,走査電子顕微鏡,透過電子顕微鏡およびN2吸着-脱着研究により,特性が示された。この結果は,このうまく設計された複合球は,薄い球状のシリカ殻(~10nm),高表面積(>240m2g-1)およびメソ細孔(6.0-9.0nm)により特徴づけられることを示した。さらに,このAg-SiO2中空複合球は,4-ニトロフェノール(4-NP)から4-アミノフェノール(4-AP)への還元に対する高い能触媒性能を示した。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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セラミック・陶磁器の製造  ,  触媒操作  ,  各種有機化合物の製造 
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