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J-GLOBAL ID：201502289738453645   整理番号：15A0485313

Kabachnik場重合後改質を介する表面上の双極性α-アミノホスホン酸部分のインストール

Installation of Zwitterionic α-Amino Phosphonic Acid Moieties on Surfaces via a Kabachnik-Fields Post-Polymerization Modification

著者 (5件)： WAGNER Natalie (Inst. for Technical and Macromolecular Chemistry, Univ. of Hamburg, Bundesstr. 45, D-20146, Hamburg, DEU) ,  SCHNEIDER Lilli ,  MICHELSWIRTH Martin ,  KUEPPER Karsten ,  THEATO Patrick
資料名： Macromolecular Chemistry and Physics  (Macromolecular Chemistry and Physics)
巻： 216  号： 7  ページ： 783-793  発行年： 2015年04月 
JST資料番号： D0010A  ISSN： 1022-1352  CODEN： MCHPES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メチルシルセスキオキサン)(PMSSQ)とポリ(4-ビニルベンズアルデヒド)(PStCHO)からなる有機-無機ハイブリッドポリマーを,PMSSQベースのマクロ連鎖移動剤(CTA)を用いた4-ビニルベンズアルデヒド(StCHO)の可逆的付加フラグメンテーション連鎖移動(RAFT)重合により作製した。得たPMSSQ-PStCHOを,シリコンウェハまたは銅板などの基板上にスピンコートして,アルデヒド官能化表面を作製した。アルデヒド官能化表面の成功裏のKabachnik場重合後改質(KF-PMR)を,アミンおよびジアルキルホスホネートを用いて実行した。IR,エネルギー分散型X線(EDX),およびX線光電子分光法(XPS)測定を含む表面分析法によりキャラクタリゼーションして,アルデヒドの実質的に定量的な変換率で表面にα-アミノホスホネートのインストールを行った。また,生成したα-アミノホスホネートは首尾よく脱保護されて,表面上に対応するα-アミノ酸ホスホン酸をもたらして,この経路を,α-アミノホスホン酸による信頼性の高いツール可能な表面官能化経路とする。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ポリシルセスキオキサン ,  *連鎖移動 ,  *フラグメンテーション ,  *重合 ,  ウエハ【IC】 ,  スピンコーティング ,  赤外分光法 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線光電子分光法 ,  官能化
準シソーラス用語： EDX分析 ,  XPS ,  シリコンウエハ ,  ポリ(メチルシルセスキオキサン) ,  赤外分光 ,  表面官能化

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (1件)： 4-ビニルベンズアルデヒド

タイトルに関連する用語 (4件)： 重合 ,  改質 ,  ホスホン酸 ,  インストール