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J-GLOBAL ID:201502289880246711   整理番号:15A0501948

太陽電池用途のための新規フッ素化されたn-nc-SiO:H材の開発

Development of a novel fluorinated n-nc-SiO:H material for solar cell application
著者 (7件):
資料名:
巻: 157  ページ: 130-137  発行年: 2015年05月01日 
JST資料番号: E0934A  ISSN: 0254-0584  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本稿では,プラズマ増強化学蒸着(PECVD)法によって調製されたフッ素化ナノ結晶SiO:F:H材料の開発,及びZnOのような以前に開発された材料よりも優れている特性,及びa-Si(単一及び多接合型)太陽電池の背面反射体としての用途のためのn-μc-SiOx:Hについて報告した。良い背面反射体の材料は,層の反射率を増加させ,低屈折率を有するべきである。以前著者らは,2.1の屈折率を有するシラン(SiH4),二酸化炭素(CO2),及び水素(H2)の原料ガス混合物のRF-PECVD法(13.56MHz)によって,n型微結晶水素化シリコン酸化物(μc-SiO:H)材料を開発した。ガス混合物にフッ素を添加することにより,材料をa-Si太陽電池のためのより良い反射に調製し,屈折率は1.70に低減した。本材料は,以下の研究により詳細にキャリクタリゼーションされている,すなわち(1)HRTEM,AFM,ラマン及びFTIR分光法による構造的研究,(2)温度依存導電率測定を使用した光電子特性,及び(3)エリプソメトリー及び紫外可視スペクトル分析など。最適化された材料は,μc-SiO:H薄膜よりも優れた特性を示した。屈折率が1.85であり,E04=2.61eVで,横方向の電気伝導度が10-8Scm-1であり,ラマン結晶性がXc=48.0%であった。これらの合わせた特性は,また,a-Si太陽電池における裏面反射層(BRL)として,及び微細太陽電池の内部反射層(IRL)として使用するため,この材料は最も適している。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
太陽電池  ,  気相めっき  ,  有機けい素化合物 

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