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J-GLOBAL ID：201502290505705588   整理番号：15A0695447

弱い並びに強い界面を有する多層膜構造のin situ4点曲げによる亀裂経路選択

Following crack path selection in multifilm structures with weak and strong interfaces by in situ 4-point-bending

著者 (9件)： VOELKER Bernhard (KAI-Kompetenzzentrum Automobile- und Industrieelektronik GmbH, Villach, AUT) ,  VOELKER Bernhard (Montanuniversitaet Leoben, Leoben, AUT) ,  VENKATESAN Sriram (Max-Planck-Inst. Eisenforschung GmbH, Duesseldorf, DEU) ,  HEINZ Walther (KAI-Kompetenzzentrum Automobile- und Industrieelektronik GmbH, Villach, AUT) ,  MATOY Kurt (Infineon Technol. AG, Villach, AUT) ,  ROTH Roman (Infineon Technol. AG, Villach, AUT) ,  BATKE Joerg-Martin (Infineon Technol. AG, Regensburg, DEU) ,  CORDILL Megan J. (Austrian Acad. Sci., Leoben, AUT) ,  DEHM Gerhard (Max-Planck-Inst. Eisenforschung GmbH, Duesseldorf, DEU)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 30  号： 8  ページ： 1090-1097  発行年： 2015年04月28日 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si基板にプラズマ励起CVDで厚さ1.5μmのホウリンケイ酸塩ガラス(BPSG)層を作製後,900°Cでアニールし,厚さ300nmのCu又はTiN層をスパッタリングした。Cu/BPSGとTiN/BPSGは各々弱い界面と強い界面を有し,光学顕微鏡とSEMによる観察下でのin situ4点曲げ試験で破壊経路と応力-変位曲線を調べた。また,ex situ4点曲げ試験も行った。その結果,Cu/BPSGの界面エネルギー開放速度はex situ,in situ光学顕微鏡及びin situSEMで各々3.7±0.3,3.2±0.6及び2.9±0.2J/m²であり,TiN/BPSGではex situ4点曲げ試験で8.4J/m²であり,界面付着力の違いが大きく影響した。

シソーラス用語： *多層膜 ,  *曲げ試験 ,  *その場観察 ,  *経路 ,  亀裂伝搬 ,  ウエハ【IC】 ,  プラズマCVD ,  蒸着膜 ,  ホウケイ酸ガラス ,  熱処理 ,  銅 ,  スパッタ蒸着 ,  界面 ,  表面エネルギー ,  エネルギー解放率 ,  付着力 ,  曲線 ,  チタン化合物 ,  窒化物
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  ホウリンケイ酸塩ガラス ,  荷重-変位曲線 ,  *亀裂経路 ,  四点曲げ試験 ,  熱アニーリング ,  窒化チタン

分類 (1件)： 破壊力学一般  (HC04010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面 ,  多層膜 ,  曲げ ,  亀裂経路