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J-GLOBAL ID：201502291036572543   整理番号：15A0347441

U₀=1.5m/s,Δθ=0~225°Cの場合の加熱円柱後流内での乱流統計量

著者 (3件)： 渡部英昭 (秋田工高専) ,  蒔田秀治 ,  田子真 (秋田大)
資料名： 日本機械学会東北支部秋季講演会講演論文集
巻： 50th  ページ： 81-82  発行年： 2014年09月05日 
JST資料番号： L0150A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 新型温度流速計を用いて,主流流速U₀=1.5m/s中で表面温度と周囲との温度差Δθ=0~225°Cに加熱した円柱の後流を,低速低乱風洞内で計測し,非加熱円柱後流との比較により,円柱を加熱することによるへいきんば乱流統計量への影響を示した。(著者抄録)

シソーラス用語： *円柱 ,  物体の周りの流れ ,  風洞試験 ,  表面温度 ,  温度分布 ,  主流 ,  流速 ,  *乱流 ,  統計量 ,  流れ場 ,  Karman渦列 ,  温度差 ,  *後流 ,  *柱 ,  *構造要素
準シソーラス用語： *伴流 ,  温度流速計 ,  *加熱円柱 ,  *乱流統計量

分類 (2件)： 物体の周りの流れ  (BC02040N) ,  層流,乱流,境界層  (BC02030C)

タイトルに関連する用語 (4件)： 円柱 ,  後流 ,  乱流 ,  統計量