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J-GLOBAL ID：201502292082455191   整理番号：15A0455489

Z走査法を利用した3,3′-ジメチルビフェニル 4,4′-ジアミンと4,4′-ジイソシアノ-3,3′-ジメチルビフェニルの光学的非線形性の研究

Investigation of optical nonlinearity of 3,3′-dimethylbiphenyl 4,4′-diamine and 4,4′-diisocyano-3,3′-dimethylbiphenyl using a Z-scan technique

著者 (3件)： ZIDAN M.D. (Dep. of Physics, Atomic Energy Commission, P. O. Box 6091, Damascus, Syria) ,  AL-KTAIFANI M. (Dep. of Radioisotopes, Atomic Energy Commission, P. O. Box 6091, Damascus, Syria) ,  ALLAHHAM A. (Dep. of Physics, Atomic Energy Commission, P. O. Box 6091, Damascus, Syria)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 70  ページ： 45-49  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3,3′-ジメチルビフェニル 4,4′-ジアミンと4,4′-ジイソシアノ-3,3′-ジメチルビフェニルの非線形光学特性を研究するために,Z走査法を利用した。波長635nm,パワー14.5mWの連続波ダイオードレーザで測定を実行した。非線形吸収係数(β)と非線形屈折率(n₂)は,NCやNH₂の官能基の影響を受け,特にNC群の影響を受けた。逆飽和吸収(RSA)機構が光リミッティングの原因となった。この材料は,将来の光学素子に有望であることが分かった。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *非線形光学材料 ,  *光学的測定 ,  レーザパルス ,  吸収係数 ,  屈折率 ,  非線形光学 ,  半導体レーザ ,  可飽和吸収体 ,  光制御 ,  特性 ,  連続レーザ ,  光吸収 ,  基 ,  芳香族アミン ,  ジアミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： *Z走査法 ,  官能基 ,  光リミッティング ,  光学的非線形性 ,  非線形吸収 ,  非線形吸収係数 ,  非線形屈折率 ,  非線形光学特性

分類 (1件)： 非線形光学  (BD05000T)

物質索引 (2件)： 3,3′-ジメチルビフェニル-4,4′-ジアミン ,  3,3′-ジメチル-4,4′-ジイソシアノビフェニル

タイトルに関連する用語 (4件)： Z走査法 ,  ジアミン ,  光学的非線形性 ,  研究