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J-GLOBAL ID：201502292117002373   整理番号：15A0689484

アミン保護銅微粒子の二段焼成における酸化挙動

著者 (4件)： 松原正樹 (北大 大学院) ,  YONG Yingqiong (北大 大学院) ,  塚本宏樹 (北大 大学院) ,  米澤徹 (北大 大学院)
資料名： ナノ学会大会講演予稿集  (ナノ学会大会)
巻： 13th  ページ： 56  発行年： 2015年05月11日 
JST資料番号： L3641B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *微粒子 ,  *銅 ,  *表面構造 ,  *焼成 ,  酸化 ,  還元 ,  酸化銅 ,  *金属薄膜 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  ナノロッド ,  脂肪族アミン ,  第一アミン ,  *銅薄膜 ,  保護層 ,  *構造

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  界面化学一般  (CB12010J) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

物質索引 (1件)： オクチルアミン

タイトルに関連する用語 (5件)： アミン ,  銅 ,  微粒子 ,  焼成 ,  酸化挙動