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J-GLOBAL ID：201502293940358880   整理番号：15A0272269

アキラルなアゾベンゼン液晶の光応答性縞模様パターン

Photoresponsive Stripe Pattern in Achiral Azobenzene Liquid Crystals

著者 (8件)： OKANO Kunihiko (Dep. of Applied Chemistry, Keio Univ., 3-14-1 Hiyoshi, Kohoku-ku, Yokohama, Kanagawa 223-8522 (Japan). ...) ,  AYA Satoshi ,  ARAOKA Fumito ,  OBARA Haruki ,  SATO Shiori ,  YAMASHITA Takashi ,  TAKEZOE Hideo ,  ASAKURA Kouichi
資料名： ChemPhysChem  (ChemPhysChem)
巻： 16  号： 1  ページ： 95-98  発行年： 2015年01月12日 
JST資料番号： W1265A  ISSN： 1439-4235  CODEN： CPCHFT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 周期的な縞模様パターンは光応答性アキラル液晶化合物のスメクチック相に近接しているネマチック相に見られる。この縞模様パターンの起源は極めて大きく曲がった弾性定数K₃₃に起因している。これに加えて,次の2つの方法によってこの縞模様パターンを調節できた。1)縞模様は紫外線照射によるトランス-シス光異性化によって消えるが,光照射を終了すると再び現れる。2)化合物の重合によっておよそ10°Cでネマチック相全体の縞模様は安定化する。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アゾ化合物 ,  *フェノールエーテル ,  *アセチレン化合物 ,  *ヒドロキシ化合物 ,  *エーテル ,  *ネマチック相 ,  スメクチック相 ,  偏光顕微鏡 ,  *図形 ,  パターン形成 ,  紫外線照射 ,  *光異性化 ,  幾何異性 ,  重合 ,  安定化 ,  *縞
準シソーラス用語： *しま模様

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  ネマチック相  (BK03020W)

物質索引 (4件)： 4-(10-ヒドロキシデシル)-4′-[4-(2-メトキシエトキシ)フェニルエチニル]アゾベンゼン ,  4-(10-ヒドロキシデシル)-4′-[4-(2-エトキシエトキシ)フェニルエチニル]アゾベンゼン ,  4-(10-ヒドロキシデシル)-4′-[4-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]フェニルエチニル]アゾベンゼン ,  4-(10-ヒドロキシデシル)-4′-[4-[2-(2-エトキシエトキシ)エトキシ]フェニルエチニル]アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (5件)： アキラル ,  アゾベンゼン ,  液晶 ,  光応答 ,  縞模様