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J-GLOBAL ID：201502295136274634   整理番号：15A0520090

NH₃及びSi-H基間のin situ反応を経て改良されたガス透過性のための新規シリカ膜細孔径の調整

Tuning the pore sizes of novel silica membranes for improved gas permeation properties via an in situ reaction between NH₃ and Si-H groups

著者 (6件)： KANEZASHI Masakoto (Dep. of Chemical Engineering, Hiroshima Univ., 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-hiroshima, 739-8527, Japan. ...) ,  MATSUGASAKO Rui ,  TAWARAYAMA Hiromasa ,  NAGASAWA Hiroki ,  YOSHIOKA Tomohisa ,  TSURU Toshinori
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 51  号： 13  ページ： 2551-2554  発行年： 2015年02月14日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新概念を提案して,新規シリカ膜の細孔径を制御した。トリエトキシシラン(TRIES)誘導膜で細孔径の調整は高温にてNH₃及びSi-H基間のin situ反応を経てうまく行なわれた。シリカ構造におけるSi-NH₂及び/またはSi-NH基の形成は水素選択性を増強した。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *アンモニア ,  *透気性 ,  *細孔径 ,  *膜 ,  二酸化ケイ素 ,  機能材料 ,  化学反応 ,  水素 ,  選択性 ,  *化学結合
準シソーラス用語： *多孔性シリカ膜 ,  in situ反応 ,  *Si-H結合

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (1件)： トリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (4件)： NH3 ,  ガス透過性 ,  シリカ膜 ,  細孔径