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J-GLOBAL ID:201502296498016915   整理番号:15A0293508

制御された硫酸処理によるPDMSマイクロ流体デバイスの表面改質とチップ電気泳動における応用

Surface modification of PDMS microfluidic devices by controlled sulfuric acid treatment and the application in chip electrophoresis
著者 (5件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 449-456  発行年: 2015年02月 
JST資料番号: A0626B  ISSN: 0173-0835  CODEN: ELCTDN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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ここでは,PDMSベースのマイクロ流体デバイスのための,簡単な表面改質法を提示する。この方法は,PDMSのバルク材料の表面特性を向上させるために,濃硫酸の高い反応性を利用する。これは,ATR-FTIR,EDX,SEM,およびXPSにより詳細に特徴付けられる,表面形態と化学組成の変化をもたらす。未処理のPDMSと比較して改質した基板は,その低い電気浸透特性を保持しながら,小さな有機分子の大きく減少した拡散取り込みを示す。マイクロ流体デバイスのチャネルの,高濃度のローダミンB溶液への暴露と,それに続く蛍光顕微鏡によりこれを実証した。チップベースの電気泳動分離を改善するために,表面改質法を使用した。処理および未処理のPDMSデバイスならびにガラスチップ内で得られた,FITC標識アミン/アミノ酸の分離効率を比較した。未処理と比較して,H2SO4処理PDMSチップで高い効率が得られたが,市販のマイクロ流体ガラスデバイスで得られたものよりも低い効率であった。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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電気泳動分析  ,  流体の実験・試験・測定方法及び装置 
物質索引 (1件):
物質索引
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