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J-GLOBAL ID：201502296661492398   整理番号：15A0613181

回転化学蒸着法によりSiO₂を被覆した状態のナノ層を含むhBNの緻密化

Densification of hBN with the as-coated SiO₂ nanolayer by rotary chemical vapor deposition

著者 (5件)： ZHANG Jianfeng (Coll. of Mechanics and Materials, Hohai Univ., Xikang Road-1, Gulou District) ,  ZHANG Xin (Coll. of Mechanics and Materials, Hohai Univ., Xikang Road-1, Gulou District) ,  LI Gaiye (Coll. of Mechanics and Materials, Hohai Univ., Xikang Road-1, Gulou District) ,  WU Yuping (Coll. of Mechanics and Materials, Hohai Univ., Xikang Road-1, Gulou District) ,  GOTO Takashi (Inst. for Materials, Tohoku Univ.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (Journal of the Ceramic Society of Japan (Web))
巻： 123  号： 1437  ページ： 423-427 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： U0409A  ISSN： 1348-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 焼結-硬hBNの緻密化を促進するために,六方晶窒化ホウ素(hBN)板状粉上に,回転化学的蒸着法(RCVD)により50nm厚さ以下のSiO₂ナノ層を被覆した。RCVDプロセスにおいて,110°Cで加熱したオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)前駆体をアルゴンにより反応器へ移送し,次いで700°Cで酸素と反応させてSiO₂を形成し,副生物のCO₂またはH₂Oガスをこの反応器の外に真空排気した。RCVD法によるhBN粉末の表面の,TEOS,アルゴンおよび酸素ガスへの完全な暴露と,TEOSの分解反応の安定した手順が,SiO₂ナノ層の均一分布に寄与した。均一なSiO₂ナノ層の焼結助剤の粘性流または液体流が,hBNの緻密化プロセスを促進し,1900°Cで相対密度を96.2%の最大値にまで高めた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *窒化ホウ素 ,  六方晶系 ,  *化学蒸着 ,  *二酸化ケイ素 ,  *セラミック被覆 ,  *緻密化 ,  *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  酸素 ,  酸化 ,  副産物 ,  二酸化炭素 ,  水蒸気 ,  排気 ,  分解反応 ,  分布 ,  助剤 ,  液体流 ,  粘性流 ,  相対密度 ,  放電プラズマ焼結 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *ナノ膜 ,  *回転化学蒸着 ,  焼結助剤 ,  *六方晶系窒化ホウ素

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： オルトけい酸テトラエチル

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学蒸着法 ,  SiO2 ,  ナノ層 ,  緻密化