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J-GLOBAL ID：201502297058623190   整理番号：15A0543762

自己出力型UV光検出器のためのアニールしたZnOナノワイヤ/CuSCNヘテロ接合の物性

Physical Properties of Annealed ZnO Nanowire/CuSCN Heterojunctions for Self-Powered UV Photodetectors

著者 (12件)： GARNIER Jerome (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  GARNIER Jerome (LMGP, CNRS, Grenoble, FRA) ,  PARIZE Romain (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  PARIZE Romain (LMGP, CNRS, Grenoble, FRA) ,  APPERT Estelle (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  APPERT Estelle (LMGP, CNRS, Grenoble, FRA) ,  CHAIX-PLUCHERY Odette (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  CHAIX-PLUCHERY Odette (LMGP, CNRS, Grenoble, FRA) ,  KAMINSKI-CACHOPO Anne (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  KAMINSKI-CACHOPO Anne (IMEP-LAHC, CNRS, Grenoble, FRA) ,  CONSONNI Vincent (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble, FRA) ,  CONSONNI Vincent (LMGP, CNRS, Grenoble, FRA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7  号： 10  ページ： 5820-5829  発行年： 2015年03月18日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,ZnO NW/CuSCNヘテロ接合の物理的性質に対する空気と窒素雰囲気下での熱処理の影響を研究し,含浸技術により堆積したCuSCN層の構造的及び化学的性質,並びにこれらのヘテロ接合の電気的特性について報告した。自家製の噴霧熱分解反応器により,Corning社製C1737ホウケイ酸ガラス基板上に透明電極としてフッ素ドープ酸化スズ(FTO)薄膜を堆積し,ディップコーティングにより,FTO層上に薄いZnO種層を堆積した後,化学浴析出法によってZnOナノワイヤ(NWs)を成長した。続いて,ZnO NWs間の細孔を充填するために,含浸技術によりCuSCN層を堆積し,温度を変化させてアニールを行った。著者等は,100mW/cm²の照度下において,ゼロバイアス時370nmで0.02A/Wの最大応答性を有する自己出力型UV光検出器としてのZnO NW/CuSCNヘテロ接合の効率的な統合を実証した。

シソーラス用語： *紫外検出器 ,  *酸化亜鉛 ,  *ナノワイヤ ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *ヘテロ接合 ,  銅化合物 ,  *チオシアン酸塩 ,  *熱処理 ,  析出 ,  透明電極 ,  酸化スズ ,  ドーピング ,  フッ素 ,  基板 ,  ホウケイ酸ガラス ,  被覆 ,  *含浸 ,  *細孔
準シソーラス用語： 化学浴析出法 ,  ディップコーティング ,  浸漬被覆 ,  自己出力

分類 (2件)： 測光と光検出器一般  (BD07031F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 自己 ,  UV光 ,  検出器 ,  アニール ,  ZnOナノワイヤ ,  ヘテロ接合 ,  物性