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J-GLOBAL ID：201502297635794439   整理番号：15A0427057

大気圧低温プラズマを用いて調整したZnO薄膜の微細構造に対するポストアニーリングの効果

Effect of Post-Annealing on Microstructure of ZnO Thin Films Prepared Using Atmospheric Pressure Cold Plasma

著者 (6件)： DU Jinlong (Kagawa Univ.) ,  HASEGAWA Sota (Kagawa Univ.) ,  YUJI Toshifumi (Univ. Miyazaki) ,  SHIKAMA Tomokazu (Kagawa National coll. Technol.) ,  YAMAGUCHI Kenzo (Kagawa Univ.) ,  SUZAKI Yoshifumi (Kagawa Univ.)
資料名： プラズマ応用と複合機能材料  (Conference Journal of the IAPS Meeting)
巻： 24  ページ： 72  発行年： 2015年03月01日 
JST資料番号： L6242A  ISSN： 1340-9557  CODEN： POFZFU  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *プラズマ処理 ,  *大気プラズマ ,  微細構造 ,  *焼なまし ,  透明導電膜 ,  低温プラズマ
準シソーラス用語： *ポストアニーリング

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  熱処理技術  (WC03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 大気圧低温プラズマ ,  ZnO薄膜 ,  微細構造 ,  ポストアニーリング