特許

J-GLOBAL ID：201503000170663008

ポリエーテルゴムの製造方法

発明者： 成田 智幸 ,  丹羽 和
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： とこしえ特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-268993
公開番号（公開出願番号）：特開2015-124274
出願日： 2013年12月26日
公開日（公表日）： 2015年07月06日
要約：

【課題】カチオン性含窒素芳香族複素環を含有する基を有するポリエーテルゴムを高い生産性にて得ることのできる製造方法を提供する。【解決手段】式(1)で表わされる単位を、0.1〜30モル%含有するポリエーテルゴムを製造する方法であって、エピハロヒドリン単量体単位を0.1モル%以上含有するポリエーテルゴムと、イミダゾール等の窒素原子含有芳香族複素環式化合物とを、アルカリ金属のハロゲン化物及び/又はアルカリ土類金属のハロゲン化物の存在下にて、溶液中で反応させることにより、前記エピハロヒドリン単量体単位を構成するハロゲン原子の少なくとも一部を、カチオン性含窒素芳香族複素環を含有する基に置換するポリエーテルゴムの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される単位を、0.1モル%以上30モル%未満含有するポリエーテルゴムを製造する方法であって、 エピハロヒドリン単量体単位を0.1モル%以上含有するポリエーテルゴムと、窒素原子含有芳香族複素環式化合物とを、アルカリ金属のハロゲン化物および/またはアルカリ土類金属のハロゲン化物の存在下にて、溶液中で反応させることにより、前記エピハロヒドリン単量体単位を構成するハロゲン原子の少なくとも一部を、カチオン性含窒素芳香族複素環を含有する基に置換することを特徴とするポリエーテルゴムの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 65/325 ,  C08G 65/24 ,  C08L 71/03

FI (3件)：

C08G65/325 ,  C08G65/24 ,  C08L71/03

Fターム (19件)：

4J002CH041 ,  4J002CH051 ,  4J002DA046 ,  4J002DG016 ,  4J002EK026 ,  4J002EK036 ,  4J002ES016 ,  4J002ET016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV046 ,  4J002EV326 ,  4J002FD146 ,  4J002GM00 ,  4J002GM01 ,  4J002GQ02 ,  4J005AA04 ,  4J005AA05 ,  4J005AA10 ,  4J005BD05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ゴム架橋物および導電性部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-100552   出願人：日本ゼオン株式会社
• ポリエーテルゴムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-236678   出願人：日本ゼオン株式会社
• ヒドロキシシリル基を末端に有するポリオキシエチレン化合物、四級塩を末端に有するブロック共重合体、および経皮吸収促進剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-201966   出願人：財団法人相模中央化学研究所