新規金属錯体、特にそのルテニウム錯体、及びその使用方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉村憲司 , 山口雄輔 , 田浦弘達
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-526983
公開番号（公開出願番号）：特表2015-532639
出願日： 2013年08月14日
公開日（公表日）： 2015年11月12日
要約：

本発明の目的は、式(1)で表される新規金属錯体で、そのパラメータが発明を実施するための形態で定める通りである金属錯体、及び式(1)で表される金属錯体のオレフィンメタセシス反応における使用方法である。

請求項（抜粋）：

式(1)で表される金属錯体:

IPC (14件)：

C07F 15/00 , C07C 69/74 , C07C 67/475 , C07C 69/16 , C07C 67/333 , C07C 11/02 , C07C 2/00 , B01J 31/24 , B01J 31/22 , C07D 207/48 , C07D 209/30 , C07D 211/96 , C07D 307/28 , C08G 61/06

FI (14件)：

C07F15/00 A , C07C69/74 A , C07C67/475 , C07C69/16 , C07C67/333 , C07C11/02 , C07C2/00 , B01J31/24 Z , B01J31/22 Z , C07D207/48 , C07D209/30 , C07D211/96 , C07D307/28 , C08G61/06

Fターム (58件)：

4C054AA05 , 4C054CC08 , 4C054DD01 , 4C054EE04 , 4C054EE08 , 4C054FF01 , 4C069AB07 , 4C069BC18 , 4C204CB03 , 4C204DB29 , 4C204EB02 , 4C204FB22 , 4C204GB14 , 4G169AA06 , 4G169BA21A , 4G169BA21B , 4G169BA27A , 4G169BA27B , 4G169BC70A , 4G169BC70B , 4G169BE07B , 4G169BE14B , 4G169BE15A , 4G169BE15B , 4G169BE26A , 4G169BE26B , 4G169BE27A , 4G169BE27B , 4G169BE37A , 4G169BE37B , 4G169BE38A , 4G169BE38B , 4G169BE46A , 4G169BE46B , 4G169CB38 , 4G169CB41 , 4G169CB44 , 4G169CB48 , 4G169CB65 , 4G169CB67 , 4G169DA02 , 4G169FA01 , 4G169FB77 , 4H006AA02 , 4H006AC27 , 4H006AC29 , 4H006BA23 , 4H006BJ20 , 4H006KC20 , 4H039CA29 , 4H050AA01 , 4H050AA03 , 4H050AB40 , 4J032CA38 , 4J032CB01 , 4J032CC03 , 4J032CD02 , 4J032CE03

引用特許：

審査官引用 (2件)

9,10-デヒドロ-12,13-デソキシエポチロン誘導体の調製方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-507052 出願人：エフ.ホフマン-ラロシュアーゲー
レニン阻害剤、例えばアリスキレンの中間体の合成方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-512671 出願人：ノバルティスアーゲー

引用文献：

審査官引用 (1件)

INDENYLIDENE COMPLEXES OF RUTHENIUM BEARING NHC LIGANDS - STRUCTURE ELUCIDATION 以下省略

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