特許
J-GLOBAL ID：201503000877097513

回折効果を用いた光学モデルの測定スペクトルへの適合

発明者：
デーヴィッド, ジェフリー ドゥルー

デーヴィッド, ジェフリー ドゥルー について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-508993
公開番号（公開出願番号）：特表2015-520508
出願日： 2013年04月05日
公開日（公表日）： 2015年07月16日
要約：
研磨作業を制御する方法は、研磨中にインシトゥ光学モニタシステムを用いて測定スペクトルの経時配列を取得することを含む。配列からの各測定スペクトルに対して光学モデルが適合される。光学モデルは反復構造の次元を含み、適合させることは、反復構造の回折効果を使用して出力スペクトルを計算することを含み、光学モデルのパラメータは、終点パラメータと、反復構造のパラメータとを含む。適合させることにより、適合された終点パラメータ値の配列が生成され、適合された終点パラメータ値の配列から研磨終点又は基板への圧力の調節のうちの少なくとも一つが決定される。
請求項（抜粋）：
研磨作業を制御する方法であって、 基板の第1層を研磨することと、 研磨中に、インシトゥ光学モニタシステムを用いて、測定スペクトルの経時配列を取得することと、 測定スペクトルの配列からの各測定スペクトルについて、前記測定スペクトルに光学モデルを適合させることであって、前記適合させることは、前記光学モデルの出力スペクトルと前記測定スペクトルとの間の差が最小限となるパラメータを見つけることを含み、前記光学モデルは反復構造の次元を含み、前記適合させることは、前記反復構造の回折効果を使用して出力スペクトルを計算することを含み、前記パラメータは終点パラメータと、前記反復構造のパラメータを含み、前記適合させることによって、適合された終点パラメータ値の配列が生成され、前記配列の各終点パラメータ値は、前記測定スペクトルの配列のうちの前記スペクトルの一つに関連づけられる、適合させることと、 前記適合された終点パラメータ値の配列から、研磨終点、又は前記基板への圧力調節のうちの少なくとも一つを判断することと を含む方法。
IPC (5件)：
H01L 21/304 ,  B24B 37/34 ,  B24B 37/013 ,  B24B 49/12 ,  G01B 11/06
FI (7件)：
H01L21/304 622R ,  H01L21/304 621D ,  H01L21/304 622S ,  B24B37/00 X ,  B24B37/04 K ,  B24B49/12 ,  G01B11/06 G
Fターム (56件)：
2F065AA30 ,  2F065BB01 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF61 ,  2F065GG03 ,  2F065GG24 ,  2F065HH08 ,  2F065LL02 ,  2F065LL34 ,  2F065MM04 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR08 ,  3C034AA19 ,  3C034BB93 ,  3C034CA02 ,  3C034CA22 ,  3C034CB03 ,  3C034DD01 ,  3C034DD10 ,  3C158AA07 ,  3C158AC02 ,  3C158BA01 ,  3C158BA07 ,  3C158BB02 ,  3C158BB09 ,  3C158BC01 ,  3C158CA04 ,  3C158CB01 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  3C158EB14 ,  5F057AA20 ,  5F057BA15 ,  5F057BA18 ,  5F057BB14 ,  5F057BB16 ,  5F057BB19 ,  5F057BB32 ,  5F057BB33 ,  5F057BB37 ,  5F057BB38 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057GA02 ,  5F057GA11 ,  5F057GA12 ,  5F057GB02 ,  5F057GB13
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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