特許
J-GLOBAL ID：201503001145450917

計測装置、および物品の製造方法

発明者：
畑田 晃宏

畑田 晃宏 について

, 
蔵本 福之

蔵本 福之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-236264
公開番号（公開出願番号）：特開2015-094756
出願日： 2013年11月14日
公開日（公表日）： 2015年05月18日
要約：
【課題】パターン投影法によって被検物の形状を計測する計測装置において、広視野かつ広い計測レンジの実現、および小型化の実現の上で有利な技術を提供する。【解決手段】被検物の形状を計測する計測装置は、パターン光を射出する射出部と、前記射出部から射出された前記パターン光を前記被検物に照射する光学系と、前記光学系から射出された光を偏向する偏向部と、前記パターン光が照射された前記被検物を前記光学系を介して撮像する撮像部と、前記撮像部により撮像された前記被検物の画像に基づいて前記被検物の形状を決定する処理部と、を含み、前記偏向部は、入射する光の偏光状態によって偏向方向が異なる偏向素子を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検物の形状を計測する計測装置であって、 パターン光を射出する射出部と、 前記射出部から射出された前記パターン光を前記被検物に照射する光学系と、 前記光学系から射出された光を偏向する偏向部と、 前記パターン光が照射された前記被検物を前記光学系を介して撮像する撮像部と、 前記撮像部により撮像された前記被検物の画像に基づいて前記被検物の形状を決定する処理部と、 を含み、 前記偏向部は、入射する光の偏光状態によって偏向方向が異なる偏向素子を含む、ことを特徴とする計測装置。
IPC (1件)：
G01B 11/25
FI (1件)：
G01B11/25 H
Fターム (24件)：
2F065AA53 ,  2F065CC21 ,  2F065DD02 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF07 ,  2F065FF08 ,  2F065FF09 ,  2F065GG12 ,  2F065HH06 ,  2F065HH09 ,  2F065HH10 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL09 ,  2F065LL18 ,  2F065LL31 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065LL53 ,  2F065PP02 ,  2F065QQ16
引用特許：
審査官引用 (5件)
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