特許
J-GLOBAL ID：201503002111401914

酸性ガス分離モジュールの製造方法および酸性ガス分離モジュール

発明者：
平木 大介

平木 大介 について

, 
大内 亮

大内 亮 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-148918
公開番号（公開出願番号）：特開2015-163386
出願日： 2014年07月22日
公開日（公表日）： 2015年09月10日
要約：
【課題】促進輸送膜を用いるスパイラル型の酸性ガス分離モジュールにおいて、供給ガス流路用部材に起因する促進輸送膜の損傷を防止できる酸性ガス分離モジュールの製造方法、および、この製造方法で製造した酸性ガス分離モジュールを提供する。【解決手段】多孔質支持体の上に促進輸送膜を形成してなる酸性ガス分離膜を2枚作製し、この2枚の酸性ガス分離膜を、促進輸送膜を対面して貼着し、この貼着体と供給ガス流路用部材とを積層して、この積層体を含む積層体をスパイラル状に巻回することにより、この課題を解決する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
多孔質支持体と、酸性ガスと反応するキャリアおよび前記キャリアを担持するための親水性化合物を含有する、前記多孔質支持体の上に形成される促進輸送膜とを有する酸性ガス分離膜を、2枚、作製する工程、 作製した前記2枚の酸性ガス分離膜を、前記促進輸送膜を対面して貼着して、分離膜貼着体を作製する工程、 前記分離膜貼着体と、原料ガスの流路となる供給ガス流路用部材とを積層して、流路-分離膜積層体を作製する工程、および、 前記流路-分離膜積層体を含む積層体を巻回する工程、を有することを特徴とする酸性ガス分離モジュールの製造方法。
IPC (6件)：
B01D 69/00 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 63/00 ,  B01D 63/10 ,  B01D 71/70
FI (6件)：
B01D69/00 500 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D63/00 510 ,  B01D63/10 ,  B01D71/70
Fターム (48件)：
4D006GA41 ,  4D006HA61 ,  4D006JA02A ,  4D006JA05A ,  4D006JA05C ,  4D006JA05Z ,  4D006JA06A ,  4D006JA06C ,  4D006JA06Z ,  4D006JA14C ,  4D006JA14Z ,  4D006JA18C ,  4D006JA18Z ,  4D006JA19A ,  4D006JA19Z ,  4D006JA30C ,  4D006JA30Z ,  4D006JB01 ,  4D006JB06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA18 ,  4D006MA31 ,  4D006MC01X ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC33X ,  4D006MC35 ,  4D006MC36X ,  4D006MC38 ,  4D006MC40 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65 ,  4D006MC68 ,  4D006MC85 ,  4D006NA42 ,  4D006NA44 ,  4D006NA62 ,  4D006NA64 ,  4D006PA02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB64 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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