パターン位相差フィルムの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：正林真之 , 芝哲央 , 林一好 , 鎌田久男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-155874
公開番号（公開出願番号）：特開2015-025969
出願日： 2013年07月26日
公開日（公表日）： 2015年02月05日
要約：

【課題】クリア系反射防止層を備えるパターン位相差フィルムにおいて、クリア系反射防止層に含有されるフッ素系又はシリコーン系レベリング剤の裏移りによる配向不良を低減する。【解決手段】透明基材の一方の面上に、JISK7105によるヘイズ値が0.5%以下であって、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、前記透明基材の他方の面上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜上に位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含み、少なくとも前記反射防止層形成工程後の積層体を長尺フィルムの巻取体として巻き取る工程を有しており、前記巻取体から前記長尺フィルムを引き出して、前記透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行った後に、前記配向膜形成工程を行うパターン位相差フィルムの製造方法である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

透明基材の一方の面上に、JISK7105によるヘイズ値が0.5%以下であって、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するクリア系反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、前記透明基材の他方の面上に、配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜上に、位相差層を形成する位相差層形成工程と、を含むパターン位相差フィルムの製造方法であって、少なくとも前記反射防止層形成工程後の積層体を長尺フィルムの巻取体として巻き取る工程を有しており、前記巻取体から前記長尺フィルムを引き出して、前記透明基材の他方の面上にコロナ処理又はプラズマ処理を行った後に、前記配向膜形成工程を行うことを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/30 , G02B 1/11 , G02F 1/133 , B32B 7/02

FI (5件)：

G02B5/30 , G02B1/10 A , G02F1/13363 , G02F1/1337 520 , B32B7/02 103

Fターム (58件)：

2H149AA20 , 2H149AB02 , 2H149AB17 , 2H149DA01 , 2H149DA02 , 2H149DA12 , 2H149DB06 , 2H149DB15 , 2H149EA28 , 2H149FA02Z , 2H149FA08Z , 2H149FA24Y , 2H149FA26Y , 2H149FB05 , 2H149FC02 , 2H149FC03 , 2H149FD12 , 2H149FD43 , 2H191FA22X , 2H191FA30X , 2H191FA40X , 2H191FB05 , 2H191FC10 , 2H191FC32 , 2H191FC33 , 2H191FC37 , 2H191FD04 , 2H191FD12 , 2H191FD35 , 2H191GA08 , 2H191LA03 , 2H191LA40 , 2H191MA01 , 2H290AA80 , 2H290BF24 , 2H290CA03 , 2H290DA01 , 2K009AA04 , 2K009AA15 , 2K009CC26 , 2K009CC42 , 4F100AH05A , 4F100AJ06B , 4F100AK52A , 4F100AR00C , 4F100AR00D , 4F100AT00B , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10D , 4F100EJ55 , 4F100EJ61 , 4F100EJ94 , 4F100GB41 , 4F100JN01A , 4F100JN01B , 4F100JN06A

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