特許
J-GLOBAL ID:201503002275487909
蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石川 泰男
, 石橋 良規
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-074864
公開番号(公開出願番号):特開2015-196874
出願日: 2014年03月31日
公開日(公表日): 2015年11月09日
要約:
【課題】大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たすことができ、また、高精細な蒸着パターンの形成を行うことができる蒸着マスクを提供する。【解決手段】フレーム60上に複数の蒸着マスク100が、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクであって、スリットが形成された金属マスク10と当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスク20とが積層されてなり、前記金属マスクの幅方向の端面が、凹部30及び凸部35を有していることを特徴とする蒸着マスク。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクであって、
スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなり、
前記金属マスクの幅方向の端面が、凹部及び凸部を有していることを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件):
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (3件):
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (11件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG28
, 3K107GG33
, 3K107GG52
, 4K029HA03
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