特許

J-GLOBAL ID：201503002412672157

相当ひずみ付与方法及び相当ひずみ付与装置

発明者： 小田切 吉治 ,  瀧沢 陽一 ,  湯本 学 ,  堀田 善治
出願人/特許権者： 堀田 善治 ,  長野鍛工株式会社
代理人 (1件)： 松尾 憲一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-193129
公開番号（公開出願番号）：特開2015-110244
出願日： 2014年09月22日
公開日（公表日）： 2015年06月18日
要約：

【課題】被処理物全体に略均一な相当ひずみを導入できるようにする。【解決手段】少なくとも2つの金型の間に第1被処理物を配置して前記金型の間に前記第1被処理物を押圧挟持しつつ、押圧方向と略垂直な方向に前記金型を他の金型に対して相対的にスライド移動させることにより前記第1被処理物に相当ひずみを導入する相当ひずみ付与加工を行うにあたり、前記第1被処理物を基準にして、前記金型が前記第1被処理物を押圧する方向と前記金型がスライドする方向との少なくとも一方が互いに異なる2種以上の相当ひずみ付与加工を行うことにより、前記第1被処理物内に形成される相当ひずみを均一に近づける。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

少なくとも2つの金型の間に第1被処理物を配置して前記金型にて前記第1被処理物を押圧挟持しつつ、押圧方向と略垂直な方向に前記金型を相対的にスライド移動させることにより前記第1被処理物に相当ひずみを導入する相当ひずみ付与加工を行うにあたり、 前記第1被処理物を基準にしたときの前記金型による前記第1被処理物に対する押圧方向と前記金型の相対的なスライド方向との少なくとも一方が互いに異なる2種以上の相当ひずみ付与加工を行うことにより、前記第1被処理物内に形成される相当ひずみを均一に近づけることを特徴とする相当ひずみ付与方法。

IPC (1件)：

B21J 1/02

FI (1件)：

B21J1/02 Z

Fターム (6件)：

4E087AA01 ,  4E087BA04 ,  4E087BA15 ,  4E087CA01 ,  4E087CB03 ,  4E087CB12