特許

J-GLOBAL ID：201503003117433334

水処理装置及びこれを用いた水処理方法

発明者： 柏原 秀樹
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (8件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  塩谷 隆嗣 ,  藤中 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-054031
公開番号（公開出願番号）：特開2015-174062
出願日： 2014年03月17日
公開日（公表日）： 2015年10月05日
要約：

【課題】処理層洗浄の構成が簡潔で、製造コストの低い水処理装置及びこれを用いた水処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の水処理装置は、横向きに設置される筒状の本体を備え、この本体の軸方向の一端側から被処理液を供給し、他端側から処理済液を排出する水処理装置であって、上記本体の周面下方に接続され、洗浄用流体を本体内部に供給する洗浄用流体供給部と、上記本体の周面上方に接続され、洗浄用流体を本体内部から回収する洗浄用流体回収部とを備え、上記本体が、軸方向に沿って区画され、複数の粒子が封入される複数の処理層を有する。上記複数の処理層が上記複数の粒子の上方に空間を有しているとよい。上記複数の処理層が上記複数の粒子の上方に空間を有しているとよい。上記複数の処理層の隣接する処理層への流体の流通路が上下方向交互に形成されているとよい。上記複数の処理層が本体の軸方向に対して傾斜しているとよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

横向きに設置される筒状の本体を備え、この本体の軸方向の一端側から被処理液を供給し、他端側から処理済液を排出する水処理装置であって、 上記本体の周面下方に接続され、洗浄用流体を本体内部に供給する洗浄用流体供給部と、 上記本体の周面上方に接続され、洗浄用流体を本体内部から回収する洗浄用流体回収部と を備え、 上記本体が、軸方向に沿って区画され、複数の粒子が封入される複数の処理層を有する水処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/28 ,  B01D 24/00 ,  B01D 29/62 ,  B01D 24/40 ,  B01D 29/66

FI (10件)：

C02F1/28 T ,  B01D29/08 520A ,  B01D29/08 530E ,  B01D29/08 540A ,  B01D29/08 530B ,  B01D29/38 580A ,  B01D29/42 501B ,  B01D29/38 520A ,  B01D29/38 530A ,  C02F1/28 H

Fターム (15件)：

4D624AA04 ,  4D624AB06 ,  4D624BA01 ,  4D624BA02 ,  4D624BA05 ,  4D624BA14 ,  4D624BA17 ,  4D624BA19 ,  4D624BB01 ,  4D624BB02 ,  4D624BB03 ,  4D624BC01 ,  4D624CA01 ,  4D624DA07 ,  4D624DB03