特許

J-GLOBAL ID：201503003250838079

サセプタを自転公転する機構及びそれを用いた化学的気相成長方法と化学的気相成長装置

発明者： 後 藤 秀 樹 ,  佐 藤 明 ,  山 本 暁
出願人/特許権者： エー・イー・テック株式会社
代理人 (2件)： 大野 聖二 ,  堅田 健史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-261571
公開番号（公開出願番号）：特開2015-119049
出願日： 2013年12月18日
公開日（公表日）： 2015年06月25日
要約：

【課題】基板の自転公転方方法を有する化学的気相成長方法において、傾斜した多面体のサセプタの自転運動と公転運動を実現し、かつ、パージガスによって反応生成物が付着しないで、回転が持続する機構と方法の提供。【解決手段】化学的気相成長方法及び化学的気相成長装置において用いられるサセプタ1の自転公転用手段であって、公転手段を備えた複数の基板9を設置可能なサセプタ1と、基板ホルダー2を備えた自転用軸受けと、前記サセプタの公転手段側に配置された固定歯車8とを備えてなり、前記基板ホルダー2が、前記固定歯車8の歯と嵌合する自転用歯車を備えてなり、前記固定歯車8が、前記自転用軸受けよりも外側に配置されてなる、サセプタ1の自転公転用手段によって達成される。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

化学的気相成長方法及び化学的気相成長装置において用いられるサセプタの自転公転用手段であって、 公転手段を備えた複数の基板を設置可能なサセプタと、 基板ホルダーを備えた自転用軸受けと、 前記サセプタの公転手段側に配置された固定歯車とを備えてなり、 前記基板ホルダーが、前記固定歯車の歯と嵌合する自転用歯車を備えてなり、 前記固定歯車が、前記自転用軸受けよりも外側に配置されてなる、サセプタの自転公転用手段。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/458

FI (2件)：

H01L21/205 ,  C23C16/458

Fターム (26件)：

4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030BA08 ,  4K030BA38 ,  4K030BB01 ,  4K030CA05 ,  4K030CA17 ,  4K030EA06 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  5F045AB14 ,  5F045AC03 ,  5F045AC12 ,  5F045AD10 ,  5F045AD15 ,  5F045AF09 ,  5F045DA53 ,  5F045DP14 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ08 ,  5F045EM02 ,  5F045EM10