特許
J-GLOBAL ID:201503004204138417
不飽和アルコールの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
後藤 幸久
, 吉田 裕志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-182985
公開番号(公開出願番号):特開2015-048349
出願日: 2013年09月04日
公開日(公表日): 2015年03月16日
要約:
【課題】不飽和カルボニル化合物を原料として、該不飽和カルボニル化合物のカルボニル結合のみが選択的に還元された不飽和アルコールを、優れた反応速度で、高選択性かつ高収率で製造できる方法を提供する。【解決手段】コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、及び白金からなる群より選択される少なくとも一種の金属、並びに、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、モリブデン、タングステン、及びレニウムからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含む触媒の存在下、分子内に炭素-炭素不飽和結合を1以上有する炭素数が3以上の不飽和カルボニル化合物の水素による還元反応を進行させ、対応する不飽和アルコールを生成させる工程を含むことを特徴とする不飽和アルコールの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、及び白金からなる群より選択される少なくとも一種の金属、並びに、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、モリブデン、タングステン、及びレニウムからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含む触媒の存在下、分子内に炭素-炭素不飽和結合を1以上有する炭素数が3以上の不飽和カルボニル化合物の水素による還元反応を進行させ、対応する不飽和アルコールを生成させる工程を含むことを特徴とする不飽和アルコールの製造方法。
IPC (8件):
C07C 29/141
, C07C 33/02
, C07C 33/14
, C07C 33/22
, C07C 33/32
, B01J 23/656
, C07D 307/44
, C07D 307/42
FI (8件):
C07C29/141
, C07C33/02
, C07C33/14
, C07C33/22
, C07C33/32
, B01J23/64 104Z
, C07D307/44
, C07D307/42
Fターム (47件):
4C037HA06
, 4C037HA07
, 4G169AA03
, 4G169BA02B
, 4G169BB04B
, 4G169BC31A
, 4G169BC32A
, 4G169BC35A
, 4G169BC54A
, 4G169BC58A
, 4G169BC59A
, 4G169BC60A
, 4G169BC62A
, 4G169BC64A
, 4G169BC64B
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169BC70B
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC74B
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CB02
, 4G169DA08
, 4G169EA01Y
, 4G169FA02
, 4G169FB14
, 4G169FB19
, 4H006AA02
, 4H006AC41
, 4H006BA16
, 4H006BA22
, 4H006BA55
, 4H006BB31
, 4H006BC11
, 4H006BE20
, 4H006FC22
, 4H006FC52
, 4H006FC74
, 4H006FE11
, 4H039CA60
, 4H039CB20
引用特許:
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