特許
J-GLOBAL ID：201503004342246124
粒子線治療システムおよびプログラムならびに粒子線治療システムの制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人開知国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-093579
公開番号（公開出願番号）：特開2015-208598
出願日： 2014年04月30日
公開日（公表日）： 2015年11月24日
要約：
【課題】回転照射装置を備えた粒子線治療システムにおいて、回転照射装置の回転に伴うビーム状態量の補正を短期間で実施する。【解決手段】回転照射装置21を間欠的(例えば20度刻み)に回転させ、回転照射装置21の回転角度毎に位置モニタ20cにおいて荷電粒子ビームの通過位置を検出する。その上で、回転照射装置21の回転角度毎と荷電粒子ビームの通過位置とのデータの関係から状態量変化量関数を演算する。そしてこの演算した状態量変化量関数に基づいて、回転照射装置21の回転角度毎の荷電粒子ビームの通過位置を所定位置に補正するためのステアリング電磁石17bのステアリング励磁量を演算し、制御を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを照射対象に照射する粒子線治療システムであって、
前記荷電粒子ビームを設定されたエネルギーまで加速する加速器と、
この加速器から出射された荷電粒子ビームを照射する回転照射装置と、
前記加速器から出射された前記荷電粒子ビームを前記回転照射装置へ輸送するビーム輸送系と、
前記加速器,前記回転照射装置および前記ビーム輸送系を制御する制御装置と、
前記照射対象に対する前記回転照射装置の回転角度を測定する角度測定部と、
前記回転照射装置内における前記荷電粒子ビームの状態量を測定するビーム状態量測定部とを備え、
前記制御装置は、前記回転照射装置の前記回転角度毎に測定した前記荷電粒子ビームの前記状態量のデータから前記回転角度に応じた前記荷電粒子ビームの変化量に関する関数を演算し、この関数に基づいて前記回転照射装置内の前記荷電粒子ビームの状態量を制御する
ことを特徴とする粒子線治療システム。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE03
, 4C082AG02
, 4C082AG12
, 4C082AG53
, 4C082AN05
, 4C082AP03
, 4C082AP13
, 4C082AR07
審査官引用 (2件)
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粒子線照射システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2007-164990
出願人：株式会社日立製作所
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イオン光学システムを有するガントリ
公報種別：公表公報
出願番号：特願2000-610018
出願人：ジーエスアイゲゼルシャフトフュアシュベールイオーネンフォルシュンクエムベーハー
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