特許
J-GLOBAL ID：201503004420298268
水酸化ニッケルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
正林 真之
, 林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-014542
公開番号（公開出願番号）：特開2015-140465
出願日： 2014年01月29日
公開日（公表日）： 2015年08月03日
要約：
【課題】電解法で水酸化ニッケルを製造する際、得られる水酸化ニッケルの一次粒子の凝集を抑え、不純物濃度を低くすること及び、アノード表面およびカソード表面に生成する水酸化ニッケルによるスケール付着を防止して、電解電圧の上昇を抑制できる製造方法を提供すること。【解決手段】電解液として硝酸アンモニウムとハロゲン化アンモニウムの電解液を超音波雰囲気下で電解することで、通電した電気量に対して高い収率で、粒度分布D50の値が1μm以下と小さく、不純物濃度が低い水酸化ニッケルが得られる製造方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電解槽内にアノードの金属ニッケルとカソードを設置し、
前記電解槽内において硝酸アンモニウムとハロゲン化アンモニウムとを含む電解液を用いた電解を超音波雰囲気下で行なうことで、
粒度分布D50の値が1μm以下の水酸化ニッケルを得ることを特徴とする水酸化ニッケルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25B1/00 C
, C25B15/02 302
4K021AB21
, 4K021BA17
, 4K021BB01
, 4K021BB03
, 4K021BB05
, 4K021DA13
, 4K021DA15
, 4K021DC15
, 5H018AA06
, 5H018EE04
, 5H018HH01
, 5H018HH05
, 5H026AA06
