特許

J-GLOBAL ID：201503004512183890

光学積層体の製造方法

発明者： 池嶋 健太郎 ,  後藤 周作 ,  中野 勇樹 ,  山本 佳史 ,  宮武 稔 ,  渡邉 康允
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (2件)： 籾井 孝文 ,  上野山 温子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-265171
公開番号（公開出願番号）：特開2015-121658
出願日： 2013年12月24日
公開日（公表日）： 2015年07月02日
要約：

【課題】外観に優れた偏光膜の製造方法を提供すること。【解決手段】樹脂基材と該樹脂基材の片側に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体を延伸および染色して、該樹脂基材上に偏光膜を作製する工程と、上記積層体をヨウ化物を含む洗浄液に浸漬させて洗浄する工程と、上記積層体の樹脂基材側表面における洗浄液の付着量が0.005g/m2以下となるように洗浄液を除去した上で、上記積層体を乾燥する工程と、を含む、樹脂基材上に偏光膜が積層された光学積層体の製造方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

樹脂基材上に偏光膜が積層された光学積層体の製造方法であって、 樹脂基材と該樹脂基材の片側に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体を延伸および染色して、該樹脂基材上に偏光膜を作製する工程と、 前記積層体をヨウ化物を含む洗浄液に浸漬させて洗浄する工程と、 前記積層体の樹脂基材側表面における洗浄液の付着量が0.005g/m2以下となるように洗浄液を除去した上で、前記積層体を乾燥する工程と、 を含む、製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  B32B 27/30

FI (2件)：

G02B5/30 ,  B32B27/30 102

Fターム (25件)：

2H149AA02 ,  2H149AB02 ,  2H149AB23 ,  2H149BA02 ,  2H149BA13 ,  2H149BB02 ,  2H149BB07 ,  2H149BB09 ,  2H149BB10 ,  2H149BB18 ,  2H149FA03W ,  2H149FD25 ,  2H149FD43 ,  2H149FD47 ,  4F100AK00A ,  4F100AK21B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46B ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JA20 ,  4F100JA20B ,  4F100JN10B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 偏光膜を有する積層体ストリップロールの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-108629   出願人：日東電工株式会社
• 液晶パネル、及び液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-318081   出願人：日東電工株式会社