特許

J-GLOBAL ID：201503004850965976

基板装置の製造方法及び露光装置の製造方法

発明者： 興村 良輔 ,  植田 俊介
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-208329
公開番号（公開出願番号）：特開2015-073221
出願日： 2013年10月03日
公開日（公表日）： 2015年04月16日
要約：

【課題】基板装置を構成する長尺な基板に発生した局所的な大きな歪みを緩和することができる基板装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板装置52の製造方法は、一方の面60Bに部品66が半田で固定された長尺な基板60を加湿する工程と、加湿した該基板60の他方の面60Aに、複数の発光素子62が該部品66に相対するように、複数の発光素子62を半田付け温度よりも低い温度で固化する部材で固定する工程と、を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

一方の面に部品が半田で固定された長尺な基板を加湿する工程と、

IPC (6件)：

H04N 1/036 ,  H05K 3/34 ,  H05K 3/32 ,  B41J 2/44 ,  B41J 2/45 ,  B41J 2/455

FI (4件)：

H04N1/036 A ,  H05K3/34 511 ,  H05K3/32 B ,  B41J3/21 L

Fターム (24件)：

2C162AE04 ,  2C162AE21 ,  2C162AE28 ,  2C162AE40 ,  2C162AE47 ,  2C162AG15 ,  2C162FA17 ,  2C162FA44 ,  2C162FA50 ,  2C162FA70 ,  5C051AA02 ,  5C051CA08 ,  5C051DA03 ,  5C051DB02 ,  5C051DB04 ,  5C051DB22 ,  5C051DC07 ,  5C051DD01 ,  5E319AA03 ,  5E319BB11 ,  5E319CC03 ,  5E319CC61 ,  5E319CD45 ,  5E319GG11

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平1-280571