特許
J-GLOBAL ID：201503005194800199
配位高分子化を利用するレアメタルの水系分別沈殿法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-248272
公開番号（公開出願番号）：特開2015-132016
出願日： 2014年12月08日
公開日（公表日）： 2015年07月23日
要約：
【課題】 分離が困難である、インジウム、レアアースなどのレアメタルを選択的に低コストで分離する方法、特に、ネオジムイオンとジスプロシウムイオンを含有する水溶液から、ジスプロシウムイオンを選択的かつ低コストで分離する方法を提供する。【解決手段】 ジブチルリン酸エステル、リン酸水素=ビス[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]などの、水溶性のリン酸ジエステルを配位高分子形成剤として用い、レアメタルのイオンを含有する水溶液中で該イオンを選択的に配位高分子化することにより分別沈殿させて分離する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
レアメタルのイオンを含有する水溶液中から分別沈殿させることよりレアメタルを分離する方法であって、
水溶性のリン酸ジエステルを配位高分子形成剤として用い、水溶液中で3価のレアメタルのイオンを選択的に配位高分子化して分別沈殿させることを特徴とする分別沈殿法。
IPC (3件)：
C22B 3/44
, C22B 59/00
, C22B 58/00
C22B3/00 P
, C22B59/00
, C22B58/00
4K001AA15
, 4K001AA39
, 4K001BA19
, 4K001DB22
