特許
J-GLOBAL ID：201503005351891410
デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
上柳 雅誉
, 渡辺 和昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-179106
公開番号（公開出願番号）：特開2015-050508
出願日： 2013年08月30日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：
【課題】周波数調整用の膜を加工するときの異物の再付着を防止したデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】振動素子を有するデバイスの製造方法において、前記振動素子に第1膜を形成する第1膜形成工程と、前記振動素子に第2膜を形成する第2膜形成工程と、前記振動素子の第1膜を削る第1膜加工工程と、前記振動素子から前記第2膜を除去する第2膜除去工程と、を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
振動素子を有するデバイスの製造方法であって、
前記振動素子に第1膜を形成する第1膜形成工程と、
前記振動素子に第2膜を形成する第2膜形成工程と、
前記第1膜を削る第1膜加工工程と、
前記第2膜を除去する第2膜除去工程と、を含んでいることを特徴とするデバイスの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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