特許

J-GLOBAL ID：201503005391230808

配位高分子化を利用するランタノイドイオンの分別沈殿法

発明者： 半田 友衣子 ,  成田 弘一 ,  大井 健太 ,  田中 幹也 ,  脇坂 昭弘
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-214843
公開番号（公開出願番号）：特開2015-078396
出願日： 2013年10月15日
公開日（公表日）： 2015年04月23日
要約：

【課題】分離が非常に困難であるランタノイドイオン、中でも特に、ネオジムイオンとジスプロシウムイオンを、選択的かつ低コストに分離する方法を提供する。【解決手段】ネオジムイオン及びジスプロシウムイオンを含有する溶液からジスプロシウムイオンを分別沈殿する方法であって、ジ-2-エチルへキシルリン酸エステルを配位高分子形成剤として用い、ネオジムイオン及びジスプロシウムイオンを含有する水と水溶性有機溶媒との混合液中でジスプロシウムイオンを選択的に配位高分子化して分別沈殿させる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ネオジムイオン及びジスプロシウムイオンを含有する溶液からジスプロシウムイオンを分別沈殿する方法であって、 ジ-2-エチルへキシルリン酸エステルを配位高分子形成剤として用い、水と水溶性有機溶媒との混合液中でジスプロシウムイオンを選択的に配位高分子化して分別沈殿させることを特徴とする分別沈殿法。

IPC (3件)：

C22B 59/00 ,  C22B 7/00 ,  C01F 17/00

FI (3件)：

C22B59/00 ,  C22B7/00 A ,  C01F17/00 G

Fターム (8件)：

4G076AA26 ,  4G076AB11 ,  4G076AB28 ,  4G076BE11 ,  4K001AA39 ,  4K001BA19 ,  4K001DB22 ,  4K001DB26

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 目的金属イオン吸着剤及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-031984   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 国立大学法人大阪大学